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1. WO2020066806 - 共重合体およびポジ型レジスト組成物

公開番号 WO/2020/066806
公開日 02.04.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/036643
国際出願日 18.09.2019
IPC
C08F 220/22 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
029個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10エステル
22ハロゲンを含有するエステル
G03F 7/039 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
CPC
C08F 220/22
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
220Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
10Esters
22Esters containing halogen
G03F 7/039
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
出願人
  • 日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 星野 学 HOSHINO Manabu
代理人
  • 杉村 憲司 SUGIMURA Kenji
優先権情報
2018-17938225.09.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) COPOLYMER AND POSITIVE RESIST COMPOSITION
(FR) COPOLYMÈRE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE
(JA) 共重合体およびポジ型レジスト組成物
要約
(EN)
The present invention provides a copolymer which is suitable for use as a main chain scission type positive resist that has excellent heat resistance and is capable of forming a resist pattern having excellent resolution and clarity. A copolymer which comprises a monomer unit (A) represented by formula (I) and a monomer unit (B) represented by formula (II), and which has a molecular weight distribution of 1.7 or less. In the formulae, L represents a single bond or a divalent linking group; Ar represents an optionally substituted aromatic ring group; R1 represents an alkyl group; R2 represents an alkyl group, a halogen atom or a halogenated alkyl group; p represents an integer of from 0 to 5 (inclusive); and in cases where there are a plurality of R2 moieties, the R2 moieties may be the same as or different from each other.
(FR)
La présente invention concerne un copolymère qui est approprié pour être utilisé en tant que résine photosensible positive de type scission de chaîne principale, qui présente une excellente résistance à la chaleur et qui est en mesure de former un motif de résine photosensible présentant une excellente résolution et une excellente clarté. L'invention porte sur un copolymère qui comprend un motif monomère (A) représenté par la formule (I) et un motif monomère (B) représenté par la formule (II) et qui présente une distribution des poids moléculaires inférieure ou égale à 1,7. Dans les formules, L représente une simple liaison ou un groupe de liaison divalent ; Ar représente un groupe cyclique aromatique éventuellement substitué ; R1 représente un groupe alkyle ; R2 représente un groupe alkyle, un atome d'halogène ou un groupe alkyle halogéné ; p représente un nombre entier de 0 à 5 (valeurs extrêmes incluses) ; et dans les cas où il existe une pluralité de fragments R2, les fragments R2 peuvent être identiques ou différents les uns des autres.
(JA)
耐熱性に優れ、且つ、解像度および明瞭性に優れるレジストパターンの形成が可能な主鎖切断型のポジ型レジストとして良好に使用可能な共重合体を提供する。 下記式(I)で表される単量体単位(A)および下記式(II)で表される単量体単位(B)を有し、分子量分布が1.7以下である、共重合体。なお、式中、Lは、単結合または2価の連結基であり、Arは、置換基を有していてもよい芳香環基であり、Rは、アルキル基であり、Rは、アルキル基、ハロゲン原子またはハロゲン化アルキル基であり、pは、0以上5以下の整数であり、Rが複数存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。
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