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1. WO2020066469 - クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤、絶縁被膜付き方向性電磁鋼板およびその製造方法

公開番号 WO/2020/066469
公開日 02.04.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/034323
国際出願日 02.09.2019
IPC
C23C 22/00 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
22表面と反応性液体との反応による金属質材料の化学的表面処理であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残すもの,例.化成被覆(conversioncoatings)金属の不動態化
CPC
C23C 22/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
22Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
出願人
  • JFEスチール株式会社 JFE STEEL CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 國府 花梨 KOKUFU Karin
  • 寺島 敬 TERASHIMA Takashi
  • ▲高▼宮 俊人 TAKAMIYA Toshito
代理人
  • 熊坂 晃 KUMASAKA Akira
  • 森 和弘 MORI Kazuhiro
  • 磯村 哲朗 ISOMURA Tetsuo
  • 坂井 哲也 SAKAI Tetsuya
優先権情報
2018-18493628.09.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) TREATING AGENT FOR USE IN FORMATION OF CHROMIUM-FREE INSULATING COATING FILM, AND ORIENTED ELECTROMAGNETIC STEEL SHEET HAVING INSULATING COATING FILM ATTACHED THERETO AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) AGENT DE TRAITEMENT DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS LA FORMATION D'UN FILM DE REVÊTEMENT ISOLANT EXEMPT DE CHROME, FEUILLE D'ACIER ÉLECTROMAGNÉTIQUE ORIENTÉE SUR LAQUELLE EST FIXÉE UN FILM DE REVÊTEMENT ISOLANT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(JA) クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤、絶縁被膜付き方向性電磁鋼板およびその製造方法
要約
(EN)
A treating agent for use in the formation of a chromium-free insulating coating film, which comprises (A): at least one component selected from a phosphoric acid salt of Mg, a phosphoric acid salt of Ca, a phosphoric acid salt of Ba, a phosphoric acid salt of Sr, a phosphoric acid salt of Zn, a phosphoric acid salt of Al and a phosphoric acid salt of Mn, (B): colloidal silica, (C): at least one component selected from an organic acid salt of Mg, an organic acid salt of Ca, an organic acid salt of Ba, an organic acid salt of Sr, an organic acid salt of Zn, an organic acid salt of Al, an organic acid salt of Mn, an organic acid salt of Fe, an organic acid salt of Ni, an organic acid salt of Cu and an organic acid salt of Co, and (D): phosphoric acid, wherein the component (B) is contained in an amount of 50 to 150 parts by mass in terms of an SiO2 solid content and the component (C) is contained in an amount of 5.0 parts by mass or more in terms of a metal element content, both relative to 100 parts by mass of the component (A) in terms of a solid content, and the component (D) is contained in such an amount that the molar ratio of M2+ (wherein the M2+ represents at least one element selected from Mg, Ca, Ba, Sr, Zn, Mn, Ni, Cu and Co) and M3+ (wherein the M3+ represents at least one element selected from Al and Fe) both of which are metal elements and phosphorus element P in the treatment agent can satisfy the requirement represented by the formula: 0.50 < (M2+ + 1.5×M3+)/P ≤ 1.20 and the pH value can become lower than 4.5.
(FR)
L'invention concerne un agent de traitement destiné à être utilisé dans la formation d'un film de revêtement isolant exempt de chrome, qui comprend (A) : au moins un élément choisi parmi un sel de Mg d'acide phosphorique, un sel de Ca d'acide phosphorique, un sel de Ba d'acide phosphorique, un sel de Sr d'acide phosphorique, un sel de Zn d'acide phosphorique, un sel d'Al d'acide phosphorique et un sel de Mn d'acide phosphorique, (B) : de la silice colloïdale, (C) : au moins un élément choisi parmi un sel de Mg d'acide organique, un sel de Ca d'acide organique, un sel de Ba d'acide organique, un sel de Sr d'acide organique, un sel de Zn d'acide organique, un sel d'Al d'acide organique, un sel de Mn d'acide organique, un sel de Fe d'acide organique, un sel de Ni d'acide organique, un sel de Cu d'acide organique et un sel de Co d'acide organique, et (D) : de l'acide phosphorique, l'élément (B) étant contenu à hauteur de 50 à 150 parties en masse en termes de teneur en solide de SiO2 et l'élément (C) étant contenu à hauteur d'au moins 5,0 parties en masse en termes de teneur en constituant métallique, tous deux par rapport à 100 parties en masse de l'élément (A) en termes d'une teneur en solide, et l'élément (D) étant contenu dans une quantité telle que le rapport molaire entre M2+ (M2+ représentant au moins un élément choisi parmi Mg, Ca, Ba, Sr, Zn, Mn, Ni, Cu et Co) et M3+ (M3+ représentant au moins un élément choisi parmi Al et Fe), tous deux étant des éléments métalliques, et l'élément phosphore P dans l'agent de traitement peut satisfaire l'exigence représentée par la formule : 0,50 < (M2+ + 1,5×M3+)/P ≤ 1,20 et la valeur de pH peut devenir inférieure à 4,5.
(JA)
(A):Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mnのリン酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上と、(B):コロイド状シリカと、(C):Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Al、Mn、Fe、Ni、Cu、Coの有機酸塩のうちから選ばれる1種または2種以上と、(D):リン酸と、を、固形分換算で(A)100質量部に対して、(B)をSiO固形分換算で50~150質量部、(C)を金属元素として5.0質量部以上含有し、かつ、(D)を、処理剤中の金属元素であるM2+(ただし前記M2+は、Mg、Ca、Ba、Sr、Zn、Mn、Ni、Cu、Coのうちから選ばれる1種または2種以上)、M3+(ただし、前記M3+は、Al、Feのうちから選ばれる1種または2種)とリン元素Pとのモル比が0.50<(M2++1.5×M3+)/P≦1.20を満たし、pHが4.5未満となるように含有する、クロムフリー絶縁被膜形成用処理剤。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報