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1. WO2020066428 - 反射防止膜、光学素子、反射防止膜の製造方法および微細凹凸構造の形成方法

公開番号 WO/2020/066428
公開日 02.04.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/033564
国際出願日 27.08.2019
IPC
G02B 1/118 2015.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
1使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
10光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング
11反射防止コーティング
118透過率向上のための光学的サブ波長表面構造を有するもの,例.モスアイ構造
G02B 1/115 2015.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
1使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
10光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング
11反射防止コーティング
113無機の層材料のみを使用するもの
115複数の層からなるもの
CPC
G02B 1/115
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
11Anti-reflection coatings
113using inorganic layer materials only
115Multilayers
G02B 1/118
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
11Anti-reflection coatings
118having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 吉弘 達矢 YOSHIHIRO, Tatsuya
  • 板井 雄一郎 ITAI, Yuichiro
代理人
  • 特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO
優先権情報
2018-18273527.09.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ANTIREFLECTION FILM, OPTICAL ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING ANTIREFLECTION FILM, AND METHOD FOR PRODUCING FINE RELIEF STRUCTURE
(FR) FILM ANTIREFLET, ÉLÉMENT OPTIQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM ANTIREFLET ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE STRUCTURE EN RELIEF FINE
(JA) 反射防止膜、光学素子、反射防止膜の製造方法および微細凹凸構造の形成方法
要約
(EN)
Provided are: an antireflection film that is easy to manufacture and has better antireflection performance; an optical element provided with the antireflection film; a method for producing the antireflection film; and a method for forming a fine relief structure. The present invention involves repeating, a plurality of times, the following: a thin-film formation step for forming a thin film containing aluminum on a film formation surface of a substrate; and a warm water treatment step for forming a fine relief structure made of plate crystal having hydrate of alumina as a primary component by subjecting the thin film to warm water treatment. Obtained thereby is an antireflection film comprising a fine relief layer: that has a refractive index profile which gradually changes in the thickness direction going from a convexity distal end, which is the surface, toward the substrate side and reaches a maximum value at the most substrate-side boundary; that has a refractive index at the surface of 1.01 or less; and that has a first refractive index gradient, from the surface to 100 nm in the thickness direction, of 0.4/λmax or less, where λmax is the greatest wavelength in a wavelength region of light targeted by antireflection.
(FR)
La présente invention concerne un film antireflet facile à fabriquer et présentant une meilleure performance antireflet ; un élément optique pourvu d'un effet antireflet ; un procédé de production du film antireflet ; et un procédé de formation d'une structure en relief fine. La présente invention consiste à répéter, plusieurs fois, les étapes suivantes : une étape de formation de film mince consistant à former un film mince contenant de l'aluminium sur une surface de formation de film d'un substrat ; et une étape de traitement à l'eau chaude consistant à former une structure en relief fine constituée de cristal plat présentant de l'hydrate d'alumine en tant que composant principal en soumettant le film fin à un traitement à l'eau chaude. La présente invention permet d'obtenir un film antireflet comprenant une couche en relief fine : qui présente un profil d'indice de réfraction qui change progressivement dans le sens de l'épaisseur en partant de l'extrémité distale de convexité, qui est la surface, vers le côté substrat et atteint une valeur maximale à la limite située le plus vers le côté substrat ; et qui présente un indice de réfraction au niveau de la surface inférieur ou égal à 1,01 ; et qui présente un premier gradient d'indice de réfraction, de la surface à 100 nm dans le sens de l'épaisseur, de 0,4/λmax ou moins, où λmax est la longueur d'onde la plus grande dans une région de longueur d'onde de lumière ciblée par l'antireflet.
(JA)
容易に作製可能であり、かつ、より良い反射防止性を有する反射防止膜、反射防止膜を備えた光学素子、反射防止膜の製造方法および微細凹凸構造の形成方法を提供する。 基材上の成膜面にアルミニウムを含む薄膜を形成する薄膜形成工程と、薄膜に対して温水処理を施すことにより、アルミナの水和物を主成分とする板状結晶からなる微細凹凸構造を形成する温水処理工程とを複数回繰り返す。これにより、表面である凸部先端から基材側に向かう厚さ方向に徐々に変化して最も基材側の界面において最大値となる屈折率プロファイルを有し、表面における屈折率が1.01以下であり、表面から厚さ方向に100nmまでの第1の屈折率勾配は、反射防止対象とする光の波長域における最も長い波長をλmaxとした場合に0.4/λmax以下である微細凹凸層を含む反射防止膜を得る。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報