処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

Goto Application

1. WO2020066338 - 転写材料、積層体、及び、積層体の製造方法

公開番号 WO/2020/066338
公開日 02.04.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/031441
国際出願日 08.08.2019
IPC
G02B 1/118 2015.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
1使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
10光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング
11反射防止コーティング
118透過率向上のための光学的サブ波長表面構造を有するもの,例.モスアイ構造
B32B 3/30 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
3外面または内面にある一つの層が不連続または不均一なもの,または一つの層が平らでない形状のものから本質的になる積層体;本質的に形状に特徴を有する積層体
26連続層の横断面の特殊形状を特徴とするもの;くぼみまたは内部空隙を有する層を特徴とするもの
30凹所または突起をもつ,例.みぞを作った,リブをつけた,層を特徴とするもの
B32B 27/18 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27本質的に合成樹脂からなる積層体
18特別な添加剤の使用を特徴とするもの
G02B 5/00 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/09 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
09構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
CPC
B32B 27/18
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
27Layered products comprising ; a layer of; synthetic resin
18characterised by the use of special additives
B32B 3/30
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
3Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form
26characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids
30characterised by a layer formed with recesses or projections, e.g. ; hollows, grooves, protuberances, ribs
G02B 1/118
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
11Anti-reflection coatings
118having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
G02B 5/00
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
G03F 7/004
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
G03F 7/09
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
09characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 中村 秀之 NAKAMURA, Hideyuki
代理人
  • 特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO
優先権情報
2018-18351328.09.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) TRANSFER MATERIAL, LAMINATE BODY, AND PRODUCTION METHOD OF LAMINATE BODY
(FR) MATÉRIAU DE TRANSFERT, CORPS STRATIFIÉ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CORPS STRATIFIÉ
(JA) 転写材料、積層体、及び、積層体の製造方法
要約
(EN)
This transfer material comprises a temporary support body and a photosensitive layer containing carbon nanotubes and at least one compound selected from the group that consists of binder polymers and ethylenically unsaturated compounds, and the transfer material has an uneven shape in at least part of the interface between the temporary support body and the photosensitive layer; a laminate body using said transfer material, and a production method of said laminate body are also provided.
(FR)
L'invention concerne un matériau de transfert comprenant un corps de support temporaire et une couche photosensible contenant des nanotubes de carbone et au moins un composé choisi dans le groupe constitué par des polymères liants et des composés éthyléniquement insaturés, le matériau de transfert présentant en outre une forme irrégulière dans au moins une partie de l'interface entre le corps de support temporaire et la couche photosensible; l'invention concerne également un corps stratifié utilisant ledit matériau de transfert, et un procédé de production dudit corps stratifié.
(JA)
仮支持体と、バインダーポリマー及びエチレン性不飽和化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物とカーボンナノチューブとを含む感光性層とを有し、上記仮支持体と上記感光性層との界面の少なくとも一部に、凹凸形状を有する転写材料、並びに、上記転写材料を用いた積層体、及び、積層体の製造方法。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報