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国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2020013336) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法
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国際公開番号: WO/2020/013336 国際出願番号: PCT/JP2019/027810
国際公開日: 16.01.2020 国際出願日: 12.07.2019
IPC:
C08F 8/50 (2006.01) ,C08J 3/28 (2006.01) ,C08J 7/00 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
8
後処理による化学的変性
50
部分解重合
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J
仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
3
高分子物質の処理方法または混合方法
28
波動エネルギーまたは粒子線による処理
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J
仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
7
高分子物質から製造された成形体の処理または被覆
出願人:
国立大学法人大阪大学 OSAKA UNIVERSITY [JP/JP]; 大阪府吹田市山田丘1番1号 1-1, Yamadaoka, Suita-shi, Osaka 5650871, JP
ダイキン工業株式会社 DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区中崎西二丁目4番12号 梅田センタービル Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-Nishi 2-Chome, Kita-ku, Osaka-Shi, Osaka 5308323, JP
発明者:
大島 明博 OSHIMA, Akihiro; JP
田中 孝之 TANAKA, Takayuki; JP
中谷 英樹 NAKAYA, Hideki; JP
佐藤 数行 SATOH, Kazuyuki; JP
仙波 諒介 SENBA, Ryosuke; JP
代理人:
特許業務法人 安富国際特許事務所 YASUTOMI & ASSOCIATES; 大阪府大阪市淀川区宮原3丁目5番36号 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
優先権情報:
2018-13330313.07.2018JP
2018-24503927.12.2018JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING LOW-MOLECULAR-WEIGHT POLYTETRAFLUOROETHYLENE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE POLYTÉTRAFLUORÉTHYLÈNE À FAIBLE MASSE MOLÉCULAIRE
(JA) 低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法
要約:
(EN) A method for producing low-molecular-weight polytetrafluoroethylene is provided, the method being less apt to yield C6-14 perfluorocarboxylic acids and salts thereof. The method according to the present invention is a method for producing low-molecular-weight polytetrafluoroethylene having a melt viscosity at 380°C of 1.0×102 to 7.0×105 Pa·s, and is characterized by including step (1), in which high-molecular-weight polytetrafluoroethylene is irradiated with radiation substantially in the absence of oxygen to reduce the molecular weight of the high-molecular-weight polytetrafluoroethylene, and step (2), in which at least some of the main-chain radicals and terminal radicals generated by the irradiation are deactivated substantially in the absence of oxygen to obtain the low-molecular-weight polytetrafluoroethylene.
(FR) L'invention concerne un procédé de production d'un polytétrafluoréthylène à faible masse moléculaire, le procédé étant moins apte à donner des acides perfluorocarboxyliques en C6-14 et des sels de ces derniers. Le procédé selon la présente invention est un procédé de production d'un polytétrafluoréthylène à faible masse moléculaire possédant une viscosité à l'état fondu à 380 °C de 1,0×102 à 7,0×105 Pa.s, et est caractérisé en ce qu'il comprend l'étape (1), selon laquelle un polytétrafluoréthylène à grande masse moléculaire est irradié avec un rayonnement sensiblement en l'absence d'oxygène en vue de réduire la masse moléculaire du polytétrafluoréthylène à grande masse moléculaire, et l'étape (2), selon laquelle au moins une partie des radicaux de chaîne principale et des radicaux terminaux générés par l'irradiation sont désactivés sensiblement en l'absence d'oxygène en vue d'obtenir le polytétrafluoréthylène à faible masse moléculaire.
(JA) 炭素数6~14のパーフルオロカルボン酸及びその塩を生成させにくい低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法を提供する。本開示は、380℃における溶融粘度が1.0×10~7.0×10Pa・sである低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法であって、実質的に酸素の不存在下で高分子量ポリテトラフルオロエチレンに放射線を照射することにより、前記高分子量ポリテトラフルオロエチレンを低分子量化する工程(1)、及び、前記照射により生成した主鎖ラジカル及び末端ラジカルの少なくとも一部を実質的に酸素の不存在下で失活させることにより、前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンを得る工程(2)を含むことを特徴とする低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法に関する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)