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1. (WO2020013318) 改質層を有する基板及びその製造方法
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国際公開番号: WO/2020/013318 国際出願番号: PCT/JP2019/027714
国際公開日: 16.01.2020 国際出願日: 12.07.2019
IPC:
B81C 1/00 (2006.01) ,C12M 1/00 (2006.01) ,G01N 35/02 (2006.01) ,C12M 1/34 (2006.01)
B 処理操作;運輸
81
マイクロ構造技術
C
マイクロ構造装置またはシステムの製造または処理に,特に適合した方法または装置
1
基層中または基層上での装置またはシステムの製造または処理
C 化学;冶金
12
生化学;ビール;酒精;ぶどう酒;酢;微生物学;酵素学;突然変異または遺伝子工学
M
酵素学または微生物学のための装置
1
酵素学または微生物学のための装置
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
35
グループ1/00から33/00のいずれか1つに分類される方法または材料に限定されない自動分析;そのための材料の取扱い
02
1以上の処理位置または分析位置へコンベア系によって移動させられる多数の試料容器を用いるもの
C 化学;冶金
12
生化学;ビール;酒精;ぶどう酒;酢;微生物学;酵素学;突然変異または遺伝子工学
M
酵素学または微生物学のための装置
1
酵素学または微生物学のための装置
34
状態の測定または検出手段をもって測定または試験を行なうもの,例.コロニー計数器
出願人:
公益財団法人川崎市産業振興財団 KAWASAKI INSTITUTE OF INDUSTRIAL PROMOTION [JP/JP]; 神奈川県川崎市幸区堀川町66番地20 66-20, Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2120013, JP
発明者:
佐藤 秀介 SATO Shusuke; JP
一木 隆範 ICHIKI Takanori; JP
上野 真吾 UENO Shingo; JP
代理人:
棚井 澄雄 TANAI Sumio; JP
飯田 雅人 IIDA Masato; JP
宮本 龍 MIYAMOTO Ryu; JP
服部 映美 HATTORI Emi; JP
優先権情報:
2018-13367713.07.2018JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE HAVING MODIFICATION LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) SUBSTRAT AYANT UNE COUCHE DE MODIFICATION ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 改質層を有する基板及びその製造方法
要約:
(EN) A method for manufacturing a substrate having a modification layer, wherein the method includes: laminating a protective layer on a surface, of a substrate having recesses, on which the recesses open, and on the inner surface of the recesses; removing a part of the protective layer to obtain the substrate in which the surface on which the recesses open is exposed and the protective layer is laminated on the inner surface of the recesses; laminating a first modification layer on the surface on which the recesses open, the first modification layer being permeable to a solvent that dissolves the protective layer; and bringing the solvent into contact with the substrate to remove the protective layer laminated on the inner surface of the recesses to obtain a substrate in which the first modification layer is laminated on the surface on which the recesses open.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat ayant une couche de modification, le procédé comprenant : la stratification d'une couche de protection sur une surface, d'un substrat ayant des évidements, sur laquelle les évidements s'ouvrent, et sur la surface interne des évidements ; le retrait d'une partie de la couche de protection pour obtenir le substrat dans lequel la surface sur laquelle les évidements s'ouvrent est exposée et la couche de protection est stratifiée sur la surface interne des évidements ; la stratification d'une première couche de modification sur la surface sur laquelle les évidements s'ouvrent, la première couche de modification étant perméable à un solvant qui dissout la couche de protection ; et le fait d'amener le solvant en contact avec le substrat pour retirer la couche de protection stratifiée sur la surface interne des évidements pour obtenir un substrat dans lequel la première couche de modification est stratifiée sur la surface sur laquelle les évidements s'ouvrent.
(JA) 改質層を有する基板の製造方法であって、凹部を有する基板の、前記凹部が開口する面及び前記凹部の内表面に、保護層を積層することと、前記保護層の一部を除去することにより、前記凹部が開口する面が露出し、前記凹部の内表面に前記保護層が積層された基板を得ることと、前記凹部が開口する面に、前記保護層を溶解する溶剤が透過性を有する、第1の改質層を積層することと、前記基板に前記溶剤を接触させて、前記凹部の内表面に積層された前記保護層を除去することにより、前記凹部が開口する面に前記第1の改質層が積層された基板を得ることを含む、製造方法。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)