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1. (WO2020013188) 卑金属めっき膜
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国際公開番号: WO/2020/013188 国際出願番号: PCT/JP2019/027165
国際公開日: 16.01.2020 国際出願日: 09.07.2019
IPC:
C25D 15/02 (2006.01) ,C23C 18/52 (2006.01)
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
15
埋込み材料を含む被覆の電解または電気泳動製造,例.粒子,ウィスカー,線材
02
電解および電気泳動方法の結合
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
18
液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの;接触メッキ
16
還元または置換によるもの,例.無電解メッキ
52
グループ18/32から18/50の単一グループに分類されない金属質材料による被覆のために還元剤を用いるもの
出願人:
株式会社ダイセル DAICEL CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市北区大深町3番1号 3-1, Ofuka-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300011, JP
発明者:
間彦 智明 MAHIKO, Tomoaki; JP
梅本 浩一 UMEMOTO, Kouichi; JP
吉田 晃人 YOSHIDA, Akihito; JP
代理人:
特許業務法人三枝国際特許事務所 SAEGUSA & PARTNERS; 大阪府大阪市中央区道修町1-7-1 北浜TNKビル Kitahama TNK Building, 1-7-1, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045, JP
優先権情報:
2018-13269012.07.2018JP
2018-16920810.09.2018JP
2019-00786421.01.2019JP
2019-07279505.04.2019JP
2019-08083522.04.2019JP
発明の名称: (EN) BASE METAL PLATING FILM
(FR) FILM DE PLACAGE DE MÉTAL DE BASE
(JA) 卑金属めっき膜
要約:
(EN) The present invention provides a base metal plating film which comprises a base metal matrix and hydrophilic diamond nanoparticles that are dispersed in the base metal matrix.
(FR) La présente invention concerne un film de placage de métal de base qui comprend une matrice métallique de base et des nanoparticules de diamant hydrophiles qui sont dispersées dans la matrice métallique de base.
(JA) 本発明は、卑金属マトリックスと、前記卑金属マトリックス中に分散する親水性ナノダイヤモンド粒子を含む卑金属めっき膜を提供する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)