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国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2020013111) 薬液、薬液収容体
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国際公開番号: WO/2020/013111 国際出願番号: PCT/JP2019/026947
国際公開日: 16.01.2020 国際出願日: 08.07.2019
IPC:
G03F 7/16 (2006.01) ,C11D 7/50 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
16
塗布法;そのための装置
C 化学;冶金
11
動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく
D
洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収
7
本質的に非表面活性化合物を基とする洗浄剤組成物
50
溶剤
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
30
液体手段を用いる画像様除去
32
そのための液体組成物,例.現像剤
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya; JP
高橋 智美 TAKAHASHI Satomi; JP
大松 禎 OOMATSU Tadashi; JP
清水 哲也 SHIMIZU Tetsuya; JP
代理人:
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
優先権情報:
2018-13174711.07.2018JP
発明の名称: (EN) CHEMICAL SOLUTION AND CHEMICAL SOLUTION CONTAINER
(FR) SOLUTION CHIMIQUE ET RÉCIPIENT POUR SOLUTION CHIMIQUE
(JA) 薬液、薬液収容体
要約:
(EN) Provided is a chemical solution having an excellent defect-inhibitory effect. Also provided is a chemical solution container containing said chemical solution. This chemical solution contains at least one organic solvent selected from the group consisting of: compounds other than alkanes and alkenes; decane; and undecane. The chemical solution contains at least one organic component selected from the group consisting of C12-50 alkanes and C12-50 alkenes. The quantity of the organic component falls within the range of 0.10 to 1,000,000 ppt by mass with respect to the total mass of the chemical solution.
(FR) L'invention concerne une solution chimique présentant un excellent effet inhibiteur de défauts. L'invention concerne également un récipient pour solution chimique qui contient ladite solution chimique. Cette solution chimique contient au moins un solvant organique choisi dans le groupe constitué par : les composés autres que les alcanes et les alcènes ; le décane ; et l'undécane. La solution chimique contient au moins un composant organique choisi dans le groupe constitué par les alcanes en C12-50 et les alcènes en C12-50. La quantité du composant organique se situe dans la plage comprise entre 0,10 et 1 000 000 ppt en masse par rapport à la masse totale de la solution chimique.
(JA) 本発明は、欠陥抑制性が優れる薬液を提供する。また、上記薬液を含有する薬液収容体を提供する。本発明の薬液は、アルカン及びアルケン以外の化合物、並びに、デカン、及び、ウンデカンからなる群から選択される1種以上の有機溶剤を含有する薬液であって、薬液は、更に、炭素数12~50のアルカン及び炭素数12~50のアルケンからなる群から選択される1種以上の有機成分を含有し、有機成分の含有量が、薬液の全質量に対して、0.10~1,000,000質量pptである。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)