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1. (WO2020012924) 成膜方法
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国際公開番号: WO/2020/012924 国際出願番号: PCT/JP2019/024787
国際公開日: 16.01.2020 国際出願日: 21.06.2019
IPC:
C23C 24/04 (2006.01) ,B22F 3/115 (2006.01) ,B22F 7/04 (2006.01) ,C04B 41/90 (2006.01) ,C23C 14/14 (2006.01) ,C23C 14/58 (2006.01) ,C23C 28/02 (2006.01) ,H05K 1/16 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
24
無機質粉末から出発する被覆
02
圧力のみを加えることによるもの
04
粒子の衝撃析出または動力学的析出
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
3
成形または焼結方法に特徴がある金属質粉からの工作物または物品の製造;特にそのために適した装置
115
融解金属の吹きつけによるもの,例.スプレー焼結,スプレー鋳造
B 処理操作;運輸
22
鋳造;粉末冶金
F
金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
7
成形を行いまたは行わないで粉末を焼結することによって,金属質粉から成る複合層,複合工作物または複合物品の製造
02
複合層の製造
04
粉末から作ったのではない,例.固体金属から作ったもの,1つまたは2以上の積層をもつもの
C 化学;冶金
04
セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物
B
石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;耐火物;天然石の処理
41
モルタル,コンクリート,人造石またはセラミックスの後処理;天然石の処理
80
セラミックスのみの
81
被覆または含浸
89
異なった組成を有する少なくとも2つの積層された被覆を得るためのもの
90
被覆の少なくとも1つは金属であるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
14
金属質材料,ほう素またはけい素
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
58
後処理
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
28
メイングループC23C2/00からC23C26/00の単一のメイングループに分類されない方法によるかまたはサブクラスC23CおよびC25Dに分類される方法の組合わせによる少なくとも2以上の重ね合わせ被覆層を得るための被覆
02
金属質材料のみの被覆
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
1
印刷回路
16
印刷電気部品,例.印刷抵抗器,印刷コンデンサまたは印刷インダクタンス,を備えるもの
出願人:
国立大学法人信州大学 SHINSHU UNIVERSITY [JP/JP]; 長野県松本市旭三丁目1番1号 1-1, Asahi 3-chome, Matsumoto-shi, Nagano 3908621, JP
KOA株式会社 KOA CORPORATION [JP/JP]; 長野県伊那市荒井3672番地 3672, Arai, Ina-shi, Nagano 3960025, JP
発明者:
榊 和彦 SAKAKI, Kazuhiko; JP
松原 周平 MATSUBARA, Shuhei; JP
仲村 圭史 NAKAMURA, Keishi; JP
代理人:
特許業務法人後藤特許事務所 GOTOH & PARTNERS; 東京都千代田区霞が関三丁目3番1号尚友会館 Shoyu-Kaikan, 3-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2018-13259212.07.2018JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜方法
要約:
(EN) This film forming method forms a plurality of metal films, which are formed from metal materials, on a ceramic substrate. This film forming method comprises: a first film formation step wherein a first metal film is formed by applying a first metal material onto the ceramic substrate by means of a sputtering method; and a second film formation step wherein a second metal film is formed by applying a powder of a second metal material onto a predetermined region of the first metal film by means of a cold spray method.
(FR) La présente invention concerne un procédé de formation de film qui forme une pluralité de films métalliques, qui sont formés à partir de matériaux métalliques, sur un substrat céramique. Ce procédé de formation de film comprend : une première étape de formation de film dans laquelle un premier film métallique est formé par l'application d'un premier matériau métallique sur le substrat céramique au moyen d'un procédé de pulvérisation ; et une seconde étape de formation de film dans laquelle un second film métallique est formé par l'application d'une poudre d'un second matériau métallique sur une région prédéfinie du premier film métallique au moyen d'un procédé de pulvérisation à froid.
(JA) 成膜方法は、セラミックス基板に金属材料からなる複数の金属被膜を形成する成膜方法であって、前記セラミックス基板にスパッタ法により第1の金属材料を施して第1金属被膜を形成する第1の被膜形成工程と、前記第1金属被膜の所定領域にコールドスプレー法により第2の金属材料の粉体を施して第2金属被膜を形成する第2の被膜形成工程と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)