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1. (WO2020012862) 蒸着マスクの良否判定方法、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法、蒸着マスクの選定方法および蒸着マスク
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国際公開番号: WO/2020/012862 国際出願番号: PCT/JP2019/023374
国際公開日: 16.01.2020 国際出願日: 12.06.2019
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
大日本印刷株式会社 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 1-1, Ichigaya-kaga-cho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001, JP
発明者:
池永 知加雄 IKENAGA Chikao; JP
代理人:
永井 浩之 NAGAI Hiroshi; JP
中村 行孝 NAKAMURA Yukitaka; JP
朝倉 悟 ASAKURA Satoru; JP
堀田 幸裕 HOTTA Yukihiro; JP
山下 和也 YAMASHITA Kazuya; JP
優先権情報:
2018-13025909.07.2018JP
発明の名称: (EN) VAPOR-DEPOSITION MASK DEFECTIVE DETERMINATION METHOD, VAPOR-DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK DEVICE MANUFACTURING METHOD, VAPOR-DEPOSITION MASK SELECTION METHOD, AND VAPOR-DEPOSITION MASK
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION DE DÉFAUT DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PROCÉDÉ DE SÉLECTION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着マスクの良否判定方法、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法、蒸着マスクの選定方法および蒸着マスク
要約:
(EN) This vapor-deposition mask defective determination method comprises: a measuring step for measuring the dimensions X1 from a point P1 to a point Q1, and the dimensions X2 from a point P2 to a point Q2; and a determination step for determining whether a vapor-deposition mask is defective on the basis of the dimensions X1 and the dimensions X2 measured in the measurement step.
(FR) L'invention concerne un procédé de détermination de défaut de masque de dépôt en phase vapeur comprenant : une étape de mesure pour mesurer les dimensions X1 d'un point P1 à un point Q1 et les dimensions X2 d'un point P2 à un point Q2 ; et une étape de détermination pour déterminer si un masque de dépôt en phase vapeur présente un défaut ou non sur la base des dimensions X1 et des dimensions X2 mesurées dans l'étape de mesure.
(JA) 本開示による蒸着マスクの良否判定方法は、P1点からQ1点までの寸法X1と、P2点からQ2点までの寸法X2とを測定する測定工程と、測定工程において測定された寸法X1および寸法X2に基づいて、蒸着マスクの良否を判定する判定工程と、を備えている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)