処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

1. WO2020012789 - 基板処理装置および基板処理方法

公開番号 WO/2020/012789
公開日 16.01.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/020637
国際出願日 24.05.2019
IPC
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84
特殊な応用に特に適合したシステム
88
きず,欠陥,または汚れの存在の調査
95
調査対象物の材質や形に特徴付けられるもの
956
物体表面のパターンの検査
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
68
グループG03F1/20からG03F1/50に包含されない準備プロセス
82
補助的なプロセス,例.クリーニング
84
検査
G01N 21/956 (2006.01)
G03F 1/84 (2012.01)
CPC
G01N 21/956
G03F 1/84
出願人
  • 株式会社SCREENホールディングス SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1 Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585, JP
発明者
  • 松尾 友宏 MATSUO, Tomohiro; JP
  • 中川 幸治 NAKAGAWA, Koji; JP
代理人
  • 中川 雅博 NAKAGAWA, Masahiro; JP
  • 福島 祥人 FUKUSHIMA, Yoshito; JP
  • 澤村 英幸 SAWAMURA, Hideyuki; JP
優先権情報
2018-13343413.07.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置および基板処理方法
要約
(EN)
In this substrate processing device, a processing unit sequentially processes a plurality of substrates. During the substrate processing by the processing unit, an inspection unit operates in a pilot mode and inspection mode. When the inspection unit is in the pilot mode, a pilot data acquisition unit uses a plurality of items of imaging information obtained through the imaging of a plurality of substrates processed by the processing unit to acquire, as pilot data, data for determining inspection conditions. A recipe generation device generates an inspection recipe on the basis of the acquired pilot data. When the inspection unit is in the inspection mode, substrate inspection is carried out on the basis of the image data for the plurality of substrates processed by the processing unit and the inspection recipe.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de traitement de substrat dans lequel une unité de traitement traite séquentiellement une pluralité de substrats. Au cours du traitement de substrat par l'unité de traitement, une unité d'inspection fonctionne en mode pilote et en mode inspection. Lorsque l'unité d'inspection est en mode pilote, une unité d'acquisition de données pilotes utilise une pluralité d'éléments d'informations d'imagerie obtenus par mise en image d'une pluralité de substrats traités par l'unité de traitement pour acquérir, comme données pilotes, des données permettant de déterminer des conditions d'inspection. Un dispositif de génération de formule génère une formule d'inspection sur la base des données pilotes acquises. Lorsque l'unité d'inspection est dans le mode inspection, une inspection de substrat est effectuée sur la base des données d'image pour la pluralité de substrats traités par l'unité de traitement et de la formule d'inspection.
(JA)
基板処理装置においては、処理ユニットにより複数の基板が順次処理される。処理ユニットによる基板の処理中に検査ユニットは、パイロットモードおよび検査モードで動作する。検査ユニットがパイロットモードにある状態で、パイロットデータ取得部が、処理ユニットにより処理される複数の基板を撮像することにより得られる複数の撮像情報に基づいて検査条件を決定するためのデータをパイロットデータとして取得する。レシピ生成装置は、取得されたパイロットデータに基づいて検査レシピを生成する。検査ユニットが検査モードにある状態で、処理ユニットにより処理される複数の基板の画像データと検査レシピとに基づいて基板の検査が行われる。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報