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1. (WO2020012779) 水素燃焼装置
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国際公開番号: WO/2020/012779 国際出願番号: PCT/JP2019/019637
国際公開日: 16.01.2020 国際出願日: 17.05.2019
IPC:
F23D 14/84 (2006.01) ,F23D 14/22 (2006.01) ,F23D 14/58 (2006.01)
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
23
燃焼装置;燃焼方法
D
バーナ
14
ガス,例.加圧下で液体として貯蔵されたガス,の燃焼用バーナ
46
細部
84
炎の拡散またはその他の整形
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
23
燃焼装置;燃焼方法
D
バーナ
14
ガス,例.加圧下で液体として貯蔵されたガス,の燃焼用バーナ
20
非予混合ガスバーナ,すなわち.ガス状燃料が燃焼域へ到達時に燃焼空気と混合されるもの
22
独立した空気供給ダクトおよびガス供給ダクトをもつもの,例.両ダクトが平行するかまたは交差するもの
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
23
燃焼装置;燃焼方法
D
バーナ
14
ガス,例.加圧下で液体として貯蔵されたガス,の燃焼用バーナ
46
細部
48
ノズル
58
ノズルの出口の形状または配置に特徴があるもの,例.環状の形態
出願人:
岩谷産業株式会社 IWATANI CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区本町3丁目6番4号 6-4, Hommachi 3-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410053, JP
発明者:
松本 和人 MATSUMOTO Kazuto; JP
加藤 勇人 KATOU Hayato; JP
阿部 好伸 ABE Yoshinobu; JP
中村 貞紀 NAKAMURA Sadaki; JP
小池 国彦 KOIKE Kunihiko; JP
代理人:
永田 元昭 NAGATA Motoaki; JP
大田 英司 OHTA Eiji; JP
永田 良昭 NAGATA Yoshiaki; JP
優先権情報:
2018-13154311.07.2018JP
発明の名称: (EN) HYDROGEN COMBUSTION APPARATUS
(FR) APPAREIL DE COMBUSTION À HYDROGÈNE
(JA) 水素燃焼装置
要約:
(EN) A substrate processing apparatus according to one embodiment of the present disclosure is provided with: a substrate processing unit; a hydrogen peroxide solution supply unit (100); an additive supply unit (110); a sulfuric acid supply unit (120); a first mixing unit (140); a second mixing unit (150); and a liquid supply unit. The substrate processing unit performs a liquid treatment on a substrate. The first mixing unit (140) mixes a hydrogen peroxide solution that is supplied from the hydrogen peroxide solution supply unit (100) with an additive that is supplied from the additive supply unit (110), thereby producing a first mixed liquid. The second mixing unit (150) mixes the first mixed liquid produced in the first mixing unit (140) with sulfuric acid that is supplied from the sulfuric acid supply unit (120), thereby producing a second mixed liquid. The liquid supply unit supplies the second mixed liquid to a substrate which is placed on the substrate processing unit.
(FR) Un appareil de traitement de substrat selon un mode de réalisation de la présente invention comprend : une unité de traitement de substrat ; une unité de distribution de solution de peroxyde d'hydrogène (100) ; une unité de distribution d'additif (110) ; une unité de distribution d'acide sulfurique (120) ; une première unité de mélange (140) ; une seconde unité de mélange (150) ; et une unité de distribution de liquide. L'unité de traitement de substrat applique un traitement à base de liquide à un substrat. La première unité de mélange (140) mélange une solution de peroxyde d'hydrogène qui a été distribuée par l'unité de distribution de solution de peroxyde d'hydrogène (100) avec un additif qui a été distribué par l'unité de distribution d'additif (110), produisant ainsi un premier liquide mélangé. La seconde unité de mélange (150) mélange le premier liquide mélangé qui a été produit par la première unité de mélange (140) avec de l'acide sulfurique qui a été distribué par l'unité de distribution d'acide sulfurique (120), produisant ainsi un second liquide mélangé. L'unité de distribution de liquide distribue le second liquide mélangé à un substrat qui est placé sur l'unité de traitement de substrat.
(JA) 本開示の一態様による基板処理装置は、基板処理部と、過酸化水素水供給部(100)と、添加剤供給部(110)と、硫酸供給部(120)と、第1混合部(140)と、第2混合部(150)と、液供給部とを備える。基板処理部は、基板に液処理を施す。第1混合部(140)は、過酸化水素水供給部(100)から供給される過酸化水素水と、添加剤供給部(110)から供給される添加剤とを混合して第1混合液を生成する。第2混合部(150)は、第1混合部(140)で生成される第1混合液と、硫酸供給部(120)から供給される硫酸とを混合して第2混合液を生成する。液供給部は、基板処理部に載置された基板に第2混合液を供給する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)