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国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2020012730) X線分析システム、X線分析装置及び気相分解装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2020/012730 国際出願番号: PCT/JP2019/014525
国際公開日: 16.01.2020 国際出願日: 01.04.2019
IPC:
G01N 23/223 (2006.01) ,G01B 15/02 (2006.01) ,G01N 23/20 (2018.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
22
二次放射の測定によるもの
223
試料をX線で照射し螢光X線を測定するもの
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
15
波動性または粒子性放射線の使用によって特徴づけられた測定装置
02
厚み測定用
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
20
放射線の回折の利用によるもの,例.結晶構造の調査のためのもの;放射線の反射の利用によるもの
出願人:
株式会社リガク RIGAKU CORPORATION [JP/JP]; 東京都昭島市松原町3丁目9番12号 3-9-12, Matsubara-cho, Akishima-shi, Tokyo 1968666, JP
発明者:
河野 浩 KONO, Hiroshi; JP
村上 智 MURAKAMI, Satoshi; JP
代理人:
特許業務法人はるか国際特許事務所 HARUKA PATENT & TRADEMARK ATTORNEYS; 東京都千代田区六番町3 六番町SKビル5階 Rokubancho SK Bldg. 5th Floor, 3, Rokubancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020085, JP
優先権情報:
2018-13013309.07.2018JP
発明の名称: (EN) X-RAY ANALYSIS SYSTEM, X-RAY ANALYSIS DEVICE, AND VAPOR PHASE DECOMPOSITION DEVICE
(FR) SYSTÈME D'ANALYSE PAR RAYONS X, DISPOSITIF D'ANALYSE PAR RAYONS X ET DISPOSITIF DE DÉCOMPOSITION EN PHASE VAPEUR
(JA) X線分析システム、X線分析装置及び気相分解装置
要約:
(EN) Provided is an X-ray analysis system that makes it possible to simply set appropriate vapor phase decomposition conditions. This X-ray analysis system comprises an X-ray analysis device and a vapor phase decomposition device. The X-ray analysis device comprises an X-ray source for irradiating primary X-rays onto a measurement sample having a thin film on the surface thereof, a detector for measuring the intensity of reflected X-rays resulting from the reflection of the primary X-rays at the surface or an interface of the measurement sample or measuring the intensity of X-ray fluorescence excited by the primary X-rays, and a calculation unit for calculating the film thickness or deposition amount of the thin film on the basis of the intensity of the reflected X-rays or X-ray fluorescence. The vapor phase decomposition device comprises a vapor phase decomposition unit for subjecting the thin film to vapor phase decomposition and a control unit for determining a vapor phase decomposition time on the basis of the film thickness or deposition amount calculated by the calculation unit.
(FR) L'invention concerne un système d'analyse par rayons X qui permet de régler simplement des conditions de décomposition en phase vapeur appropriées. Ce système d'analyse par rayons X comprend un dispositif d'analyse par rayons X et un dispositif de décomposition en phase vapeur. Le dispositif d'analyse de rayons X comprend une source de rayons X pour irradier des rayons X primaires sur un échantillon de mesure ayant un film mince sur sa surface, un détecteur pour mesurer l'intensité des rayons X réfléchis résultant de la réflexion des rayons X primaires à la surface ou une interface de l'échantillon de mesure ou mesurer l'intensité de fluorescence des rayons X excitée par les rayons X primaires, et une unité de calcul pour calculer l'épaisseur de film ou la quantité de dépôt du film mince sur la base de l'intensité des rayons X réfléchis ou de la fluorescence de rayons X. Le dispositif de décomposition en phase vapeur comprend une unité de décomposition en phase vapeur pour soumettre le film mince à une décomposition en phase vapeur et une unité de commande pour déterminer un temps de décomposition en phase vapeur sur la base de l'épaisseur de film ou de la quantité de dépôt calculée par l'unité de calcul.
(JA) 適切な気相分解の条件を簡便に設定することのできるX線分析システムを提供する。 X線分析システムであって、X線分析装置と、気相分解装置と、を有するX線分析システムであって、前記X線分析装置は、表面に薄膜が存在する測定試料に1次X線を照射するX線源と、前記1次X線が前記測定試料の表面または界面で反射した反射X線の強度、または、前記1次X線により発生した蛍光X線の強度を測定する検出器と、前記反射X線または前記蛍光X線の強度に基づいて、前記薄膜の膜厚又は付着量を算出する演算部と、を有し、前記気相分解装置は、前記薄膜を気相分解する気相分解部と、前記演算部に算出された膜厚又は付着量に基づいて、気相分解時間を決定する制御部と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)