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国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2020009222) 光学構造体
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国際公開番号: WO/2020/009222 国際出願番号: PCT/JP2019/026811
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 05.07.2019
IPC:
G02B 5/08 (2006.01) ,B29C 59/04 (2006.01) ,B42D 25/324 (2014.01) ,G02B 5/02 (2006.01) ,G02B 5/18 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
08
反射鏡
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
59
表面成形,例.エンボス;そのための装置
02
機械的手段,例.プレス,によるもの
04
ローラーまたはエンドレスベルトを用いるもの
[IPC code unknown for B42D 25/324]
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
02
拡散性要素;アフォーカル要素
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
18
回折格子
出願人:
凸版印刷株式会社 TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都台東区台東1丁目5番1号 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016, JP
発明者:
内田 聡 UCHIDA Satoshi; JP
海老名 一義 EBINA Kazuyoshi; JP
代理人:
恩田 誠 ONDA Makoto; JP
恩田 博宣 ONDA Hironori; JP
優先権情報:
2018-12804505.07.2018JP
発明の名称: (EN) OPTICAL STRUCTURE
(FR) STRUCTURE OPTIQUE
(JA) 光学構造体
要約:
(EN) The present invention is provided with an embossed layer in which an embossed surface includes flat surfaces and uneven surfaces, and an optical interaction layer for covering the embossed layer and following the embossed layer. The optical interaction layer causes an optical function of the embossed layer to be expressed. The uneven surfaces include first regions, second regions, and boundary regions positioned between the first regions and the second regions. The regions include concave surfaces recessed from flat surfaces. The concave surfaces in the first regions are recessed a first recess depth from the flat surfaces, the concave surfaces in the second regions are recessed a second recess depth from the flat surfaces, and the first recess depth is greater than the second recess depth. The concave surfaces in the boundary regions are recessed a third recess depth from the flat surfaces, and the third recess depth is greater than the first recess depth and the second recess depth. The second regions include a plurality of linear regions arranged regularly in the embossed surface.
(FR) La présente invention est pourvue d'une couche gaufrée dans laquelle une surface gaufrée comprend des surfaces plates et des surfaces irrégulières, et d'une couche d'interaction optique destinée à recouvrir la couche gaufrée et suivant cette dernière. La couche d'interaction optique provoque l'expression d'une fonction optique de la couche gaufrée. Les surfaces irrégulières comprennent des premières régions, des secondes régions et des régions limites positionnées entre les premières et les secondes régions. Les régions comprennent des surfaces concaves évidées par rapport à des surfaces plates. Les surfaces concaves dans les premières régions sont évidées à une première profondeur d'évidement par rapport aux surfaces plates, les surfaces concaves dans les secondes régions sont évidées à une deuxième profondeur d'évidement par rapport aux surfaces plates, la première profondeur d'évidement étant supérieure à la deuxième profondeur d'évidement. Les surfaces concaves dans les régions limites sont évidées à une troisième profondeur d'évidement par rapport aux surfaces plates, la troisième profondeur d'évidement étant supérieure aux première et deuxième profondeurs d'évidement. Les secondes régions comprennent une pluralité de régions linéaires agencées régulièrement dans la surface gaufrée.
(JA) エンボス面が平坦面と凹凸面とを含むエンボス層と、エンボス面を覆い、かつ、エンボス面に追従する光学相互作用層とを備える。光学相互作用層は、エンボス面の光学的な機能を発現させる。凹凸面は、第1領域、第2領域、および、第1領域と第2領域との間に位置する境界領域を含む。各領域は、平坦面から窪む凹面を含む。第1領域での凹面は平坦面から第1窪み量だけ窪んでおり、第2領域での凹面は平坦面から第2窪み量だけ窪んでおり、第1窪み量は第2窪み量よりも大きい。境界領域での凹面は平坦面から第3窪み量だけ窪んでおり、第3窪み量は第1窪み量および第2窪み量よりも大きい。第2領域は、エンボス面において規則的に配置された複数の線状の領域を含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)