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1. (WO2020009207) フィルタ、フィルタの製造方法、ろ過装置、薬液の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2020/009207 国際出願番号: PCT/JP2019/026728
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 04.07.2019
IPC:
B01D 67/00 (2006.01) ,B01D 61/58 (2006.01) ,B01D 65/06 (2006.01) ,B01D 69/04 (2006.01) ,B01D 71/06 (2006.01) ,B01D 71/26 (2006.01) ,B01D 71/36 (2006.01) ,B01D 71/56 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
67
分離工程または装置のための半透膜の製造に特に適合した工程
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
58
多段階工程
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
65
半透膜を用いる分離工程または装置のための付属品または補助操作
02
膜の洗浄または滅菌
06
特別の洗浄剤によるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
04
管状膜
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
26
ポリアルケン
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
30
ポリアルケニルハロゲン化合物
32
ふっ素原子を含むもの
36
ポリテトラフルオルエチレン
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
56
ポリアミド,例.ポリエステルアミド
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
30
液体手段を用いる画像様除去
32
そのための液体組成物,例.現像剤
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya; JP
代理人:
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
優先権情報:
2018-12934106.07.2018JP
発明の名称: (EN) FILTER, FILTER MANUFACTURING METHOD, FILTERING DEVICE, CHEMICAL SOLUTION MANUFACTURING METHOD
(FR) FILTRE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILTRE, DISPOSITIF DE FILTRAGE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SOLUTION CHIMIQUE
(JA) フィルタ、フィルタの製造方法、ろ過装置、薬液の製造方法
要約:
(EN) The present invention provides a filter wherein it is possible to manufacture a chemical solution that is excellent in preventing defects. In addition, a filter manufacturing method, a filtering device, and a chemical solution manufacturing method are provided. The filter according to the present invention is used for filtering and contains a filter body and at least type of one organic compound selected from the group consisting of: compounds represented by general formulas (I) to (V); alkanes represented by general formula (X); and alkenes represented by general formulas (XI) and (XII). The total content of the first organic compound is 0.10 to 10,000 ppt by mass with respect to the mass of the filter.
(FR) La présente invention concerne un filtre dans lequel il est possible de fabriquer une solution chimique qui est excellente dans la prévention de défauts. De plus, l'invention concerne un procédé de fabrication de filtre, un dispositif de filtrage et un procédé de fabrication de solution chimique. Le filtre selon la présente invention est utilisé pour filtrer et contenir un corps de filtre et au moins un type d'un composé organique choisi dans le groupe constitué par : des composés représentés par les formules générales (I) à (V); des alcanes représentés par la formule générale (X); et des alcènes représentés par les formules générales (XI) et (XII). La teneur totale du premier composé organique est de 0,10 à 10000 ppt en masse par rapport à la masse du filtre.
(JA) 本発明は、欠陥抑制性が優れる薬液を製造できるフィルタを提供する。また、フィルタの製造方法、ろ過装置、及び、薬液の製造方法を提供する。本発明のフィルタは、ろ過用のフィルタであって、フィルタ本体と、一般式(I)~(V)で表される化合物、一般式(X)で表されるアルカン、並びに、一般式(XI)及び(XII)で表されるアルケン、からなる群から選択される第1有機化合物を1種以上と、を含有し、第1有機化合物の合計含有量が、フィルタの質量に対して、0.10~10000質量pptである。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)