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1. (WO2020009169) ペリクル枠
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国際公開番号: WO/2020/009169 国際出願番号: PCT/JP2019/026529
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 03.07.2019
IPC:
G03F 1/64 (2012.01) ,C04B 35/117 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
62
ペリクル又はペリクル構造体,例.支持フレーム上に薄膜を備えるもの;その準備
64
そのフレームに特徴のあるもの,例.その構造又は材料
C 化学;冶金
04
セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物
B
石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;耐火物;天然石の処理
35
組成に特徴を持つ成形セラミック製品;セラミック組成;セラミック製品を製造するための無機化合物粉末の処理
01
酸化物を基とするもの
10
酸化アルミニウムを基とするもの
111
ファインセラミックス
117
複合組成物
出願人:
日本特殊陶業株式会社 NGK SPARK PLUG CO., LTD. [JP/JP]; 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 14-18, Takatsuji-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678525, JP
発明者:
木村 幸広 KIMURA, Yukihiro; JP
代理人:
名古屋国際特許業務法人 NAGOYA INTERNATIONAL PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中区錦一丁目20番19号 名神ビル Meishin Bldg., 20-19, Nishiki 1-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003, JP
優先権情報:
2018-12763604.07.2018JP
発明の名称: (EN) PELLICLE FRAME
(FR) CADRE DE PELLICULE
(JA) ペリクル枠
要約:
(EN) A pellicle frame (1) according to an aspect of the present disclosure has a rectangular shape in plan view, and is provided with one or more recesses (25) in an outer peripheral surface (13) of the pellicle frame (1), the one or more recesses (25) being provided in one or more side parts among four side parts. The one or more recesses (25) are each provided with a through-hole (27) that penetrates through the side part in which the recess (25) is provided and opens to the inside of the recess (25) and an inner peripheral surface (11). At least one recess (25) among the one or more recesses (25) is provided with a plurality of through-holes (27). Moreover, in the recess (25) in which at least one through-hole (27) is provided, a ventilation area S1 that is the area of an open end on the outer peripheral surface (13) side of the recess (25) is larger than a minimum cross-sectional area S2 that is the minimum cross-sectional area of a gas flow path formed by the through-hole (27).
(FR) La présente invention concerne un cadre de pellicule (1) qui possède une forme rectangulaire dans une vue en plan et qui est pourvu d'un ou de plusieurs évidements (25) dans une surface périphérique externe (13) du cadre de pellicule (1), le ou les évidements (25) étant disposés dans une ou plusieurs parties latérales parmi quatre parties latérales. Le ou les évidements (25) comportent chacun un trou traversant (27) qui pénètre dans la partie latérale dans laquelle l'évidement (25) est ménagé et qui s'ouvre vers l'intérieur de l'évidement (25), ainsi qu'une surface périphérique interne (11). Au moins un évidement (25) parmi le ou les évidements (25) est pourvu d'une pluralité de trous traversants (27). De plus, dans l'évidement (25) dans lequel au moins un trou traversant (27) est prévu, une zone de ventilation S1 qui constitue la zone d'une extrémité ouverte située sur le côté surface périphérique externe (13) de l'évidement (25) est plus grande qu'une aire de section transversale minimale S2 qui constitue la zone de section transversale minimale d'un trajet d'écoulement de gaz formé par le trou traversant (27).
(JA) 本開示の一つの局面におけるペリクル枠(1)は、平面視で矩形形状であり、ペリクル枠(1)の外周面(13)には、1又は複数の凹部(25)を備えるとともに、その1又は複数の凹部(25)は、4つの辺部のうち、1又は複数の辺部に設けられている。1又は複数の凹部(25)は、その凹部(25)が設けられた辺部を貫通して当該凹部(25)の内側と内周面(11)とに開口する貫通孔(27)を備えている。1又は複数の凹部(25)のうち、少なくとも一つの凹部(25)は、貫通孔(27)を複数備えている。さらに、貫通孔(27)が少なくとも一つ設けられた凹部(25)では、当該凹部(25)の外周面(13)側の開口端の面積である通気面積S1が、貫通孔(27)のなす気体流路の最小の断面積である最小断面積S2より大である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)