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1. (WO2020009088) マスク及びその製造方法
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国際公開番号: WO/2020/009088 国際出願番号: PCT/JP2019/026219
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 02.07.2019
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,C25D 1/08 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
1
電鋳
08
多孔物品または有孔物品,例.ふるい
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
28
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる構成部品を含むもの
32
光放出に特に適用される構成部品を有するもの,例.有機発光ダイオードを使用したフラットパネル・ディスプレイ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
大日本印刷株式会社 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 1-1, Ichigaya-kaga-cho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001, JP
発明者:
廣戸 栄仁 HIROTO Eiji; JP
代理人:
永井 浩之 NAGAI Hiroshi; JP
中村 行孝 NAKAMURA Yukitaka; JP
朝倉 悟 ASAKURA Satoru; JP
堀田 幸裕 HOTTA Yukihiro; JP
岡村 和郎 OKAMURA Kazuro; JP
優先権情報:
2018-12707603.07.2018JP
発明の名称: (EN) MASK AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) MASQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) マスク及びその製造方法
要約:
(EN) This mask comprises: a first mask that includes an opening; a second mask that is positioned to the opening of the first mask; and a joining part that joins the first mask and the second mask. The first mask has a first surface, a second surface that is positioned on the opposite side from the first surface, and a side surface that extends from the first surface to the second surface and demarcates the opening. The second mask includes a third surface that is positioned on the first-surface side of the first mask, and a fourth surface that is positioned on the second-surface side of the first mask. Furthermore, the second mask has an effective region that includes a first hole that passes through the second mask, and a peripheral region that is positioned to the periphery of the effective region. The joining part has: a first portion that includes at least a side surface portion, which contacts the side surface of the first mask, and a first surface portion, which contacts the first surface of the first mask; and a second portion that includes at least a fourth surface portion, which contacts the fourth surface of the second mask in the peripheral region.
(FR) L'invention concerne un masque qui comporte : un premier masque qui comprend une ouverture ; un second masque qui est positionné sur l'ouverture du premier masque ; et un élément de jonction qui relie le premier masque et le second masque. Le premier masque possède une première surface, une deuxième surface qui est positionnée sur le côté opposé à la première surface, et une surface latérale qui s'étend de la première surface à la deuxième surface et délimite l'ouverture. Le second masque comprend une troisième surface qui est positionnée sur le côté première surface du premier masque, et une quatrième surface qui est positionnée sur le côté deuxième surface du premier masque. En outre, le second masque possède une région efficace qui comprend un premier trou qui passe à travers le second masque, et une région périphérique qui est positionnée sur la périphérie de la région efficace. L'élément de jonction possède : une première partie qui comprend au moins une partie de surface latérale, qui est en contact avec la surface latérale du premier masque, et une première partie de surface, qui est en contact avec la première surface du premier masque ; et une seconde partie qui comprend au moins une quatrième partie de surface, qui est en contact avec la quatrième surface du second masque dans la région périphérique.
(JA) マスクは、開口部を含む第1マスクと、第1マスクの開口部に位置する第2マスクと、第1マスクと第2マスクを接合する接合部と、を備える。第1マスクは、第1面と、第1面の反対側に位置する第2面と、第1面から第2面まで広がり、開口部を画成する側面と、を有する。第2マスクは、第1マスクの第1面側に位置する第3面及び第1マスクの第2面側に位置する第4面を含む。また、第2マスクは、第2マスクを貫通する第1孔を含む有効領域と、有効領域の周縁に位置する周縁領域と、を有する。接合部は、第1マスクの側面に接する側面部分及び第1マスクの第1面に接する第1面部分を少なくとも含む第1部分と、第2マスクの周縁領域の第4面に接する第4面部分を少なくとも含む第2部分と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)