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1. (WO2020009068) 球状ポリメチルシルセスキオキサン粒子
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国際公開番号: WO/2020/009068 国際出願番号: PCT/JP2019/026135
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 01.07.2019
IPC:
C08G 77/18 (2006.01) ,C08J 3/12 (2006.01) ,C08J 3/16 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
77
高分子の主鎖にいおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずにけい素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
04
ポリシロキサン
14
酸素含有基に結合したけい素を含むもの
18
アルコキシまたはアリルオキシ基に
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J
仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
3
高分子物質の処理方法または混合方法
12
粉末化または粒状化
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J
仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
3
高分子物質の処理方法または混合方法
12
粉末化または粒状化
16
分散液の凝集によるもの
出願人:
株式会社トクヤマ TOKUYAMA CORPORATION [JP/JP]; 山口県周南市御影町1番1号 1-1, Mikage-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7458648, JP
発明者:
岩田 徹 IWATA Toru; JP
近重 陽平 CHIKASHIGE Yohei; JP
小松原 胆治 KOMATSUBARA Tadaharu; JP
代理人:
アイアット国際特許業務法人 IAT WORLD PATENT LAW FIRM; 東京都中野区本町4丁目44番18号 ヒューリック中野ビル7階 7th Floor, HULIC Nakano Bldg. 44-18, Honcho 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640012, JP
優先権情報:
2018-12653403.07.2018JP
2018-12871306.07.2018JP
発明の名称: (EN) SPHERICAL POLYMETHYLSILSESQUIOXANE PARTICLES
(FR) PARTICULES SPHÉRIQUES DE POLYMÉTHYLSILSESQUIOXANE
(JA) 球状ポリメチルシルセスキオキサン粒子
要約:
(EN) Provided are novel spherical polymethylsilsesquioxane particles having a large specific surface area ratio that was unavailable in the past. Spherical polymethylsilsesquioxane particles characterized by having a particle main body including at least: a network structure, which is formed by a silicon atom (n) and an oxygen atom (n) bonded to the silicon atom (n); a methyl group bonded to a silicon atom (n); and an alkoxyl group bonded to a silicon atom (n), the spherical polymethylsilsesquioxane particles satisfying formula (1). ∙Formula (1): S1/S2 ≥ 8.0 [In formula (1), S1 represents the specific surface area (m2/g) measured by the nitrogen adsorption BET one-point method; S2 represents 6/(ρ × D50), the unit thereof being (m2/g); ρ represents the particle density (g/m3); and D50 represents the volumetric cumulative 50% diameter (m) measured by a laser diffraction scattering method.]
(FR) La présente invention concerne de nouvelles particules sphériques de polyméthylsilsesquioxane ayant un grand rapport de surface spécifique qui n’était pas disponible dans le passé. Les particules sphériques de polyméthylsilsesquioxane sont caractérisées en ce qu’elles présentent un corps principal de particule comprenant au moins : une structure de réseau, qui est formée d’un atome de silicium (n) et d’un atome d’oxygène (n) lié à l’atome de silicium (n) ; d’un groupe méthyle lié à un atome de silicium (n) ; et d’un groupe alcoxyle lié à un atome de silicium (n), les particules sphériques de polyméthylsilsesquioxane satisfaisant la formule (1). Formule (1) : S1/S2 ≥ 8,0 [dans la formule (1), S1 représente la surface spécifique (m2/g) mesurée par le procédé B.E.T. à un point d’adsorption d’azote ; S2 représente 6/(ρ x D50), son motif étant (m2/g) ; ρ représente la densité de particules (g/m3) ; et D50 représente le diamètre cumulé volumétrique à 50 % (m) mesuré selon un procédé de diffusion par diffraction laser.]
(JA) 従来には無い大きな比表面積比率を有する新規な球状ポリメチルシルセスキオキサン粒子を提供すること。 ケイ素原子(n)とケイ素原子(n)に結合する酸素原子(n)とにより形成される網目構造と、ケイ素原子(n)に結合するメチル基と、ケイ素原子(n)に結合するアルコキシル基と、を少なくとも含む粒子本体を有し、かつ、下式(1)を満たすことを特徴とする球状ポリメチルシルセスキオキサン粒子。 ・式(1) S/S≧8.0 〔式(1)中、Sは、窒素吸着BET1点法により測定される比表面積(m/g)を表し、Sは、6/(ρ×D50)を表すと共にその単位は(m/g)であり、ρは粒子密度(g/m)を表し、D50はレーザー回折散乱法により測定された体積基準での累積50%径(m)を表す。〕
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)