国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現在ご利用になれません。
この状況が続く場合は、次のお問い合わせ先までご連絡ください。ご意見・お問い合わせ
1. (WO2020009048) 基板、基板の金属表面領域への選択的な膜堆積方法、有機物の堆積膜及び有機物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2020/009048 国際出願番号: PCT/JP2019/026014
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 01.07.2019
IPC:
C23C 26/00 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
26
グループ2/00から24/00に分類されない被覆
出願人:
セントラル硝子株式会社 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001, JP
発明者:
山本 純基 YAMAMOTO, Junki; JP
新免 益隆 SHINMEN, Masutaka; JP
増田 隆司 MASUDA, Takashi; JP
灘野 亮 NADANO, Ryo; JP
宮崎 達夫 MIYAZAKI, Tatsuo; JP
代理人:
特許業務法人 安富国際特許事務所 YASUTOMI & ASSOCIATES; 大阪府大阪市淀川区宮原3丁目5番36号 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
優先権情報:
2018-12608202.07.2018JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE, SELECTIVE METHOD FOR ACCUMULATING FILM ON METAL SURFACE REGION OF SUBSTRATE, ACCUMULATED FILM OF ORGANIC MATTER, AND ORGANIC MATTER
(FR) SUBSTRAT, PROCÉDÉ SÉLECTIF POUR ACCUMULER UN FILM SUR UNE RÉGION DE SURFACE MÉTALLIQUE D'UN SUBSTRAT, FILM DE MATIÈRE ORGANIQUE ACCUMULÉ ET MATIÈRE ORGANIQUE
(JA) 基板、基板の金属表面領域への選択的な膜堆積方法、有機物の堆積膜及び有機物
要約:
(EN) This selective method for accumulating a film on a metal surface region of a substrate is characterized in that a film of organic matter represented by general formula (1) is selectively accumulated on a substrate having a structure in which both of a first surface region that includes metal and a second surface region that includes a non-metal inorganic material and/or a metal oxide are exposed, the film being accumulated to a greater extent in the first surface region than in the second surface region. (In general formula (1), N represents a nitrogen atom, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom. R1 represents a C2-12 hydrocarbon group that may have a hetero atom or a halogen atom, and R2, R3, and R4 each independently represent a hydrogen atom or a C1-10 hydrocarbon group that may have a hetero atom or a halogen atom. In the case of a C3 or higher hydrocarbon group, a branched or cyclic hydrocarbon group is also included.)
(FR) L'invention concerne un procédé sélectif pour accumuler d'un film sur une région de surface métallique d'un substrat qui est caractérisé en ce qu'un film de matière organique représenté par la formule générale (1) est sélectivement accumulé sur un substrat ayant une structure dans laquelle une première région de surface qui comprend un métal ainsi qu'une seconde région de surface qui comprend un matériau inorganique non métallique et/ou un oxyde métallique sont exposées, le film étant accumulé dans une plus large mesure dans la première région de surface que dans la seconde région de surface. (Dans la formule générale (1), N représente un atome d'azote, et X représente un atome d'oxygène ou un atome de soufre. R1 représente un groupe hydrocarboné en C2-12 qui peut contenir un hétéroatome ou un atome d'halogène, et R2, R3 et R4 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné en C1-10 qui peut contenir un hétéroatome ou un atome d'halogène. Dans le cas d'un groupe hydrocarboné en C3 ou plus, un groupe hydrocarboné ramifié ou cyclique est également compris.)
(JA) 本開示の基板の金属表面領域への選択的な膜堆積方法は、金属を含む第一表面領域と、非金属無機材料及び/又は金属酸化物を含む第二表面領域とが両方とも露出した構造を持つ基板に対して、前記第二表面領域よりも前記第一表面領域に、下記一般式(1)で表される有機物の膜を選択的に堆積させることを特徴とする方法。 (一般式(1)において、Nは窒素原子であり、Xは酸素原子又は硫黄原子である。 Rは炭素数2~12のヘテロ原子やハロゲン原子を有していてもよい炭化水素基であり、R、R、Rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1~10の環やヘテロ原子やハロゲン原子を有していてもよい炭化水素基である。但し、前記炭化水素基は、炭素数が3以上の場合にあっては、分岐鎖あるいは環状構造の炭化水素基も含む。)
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)