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1. (WO2020008994) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法
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国際公開番号: WO/2020/008994 国際出願番号: PCT/JP2019/025606
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 27.06.2019
IPC:
G03F 7/038 (2006.01) ,C08F 220/20 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
20
多価のアルコールまたはフェノールのエステル
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
発明者:
桐山 和也 KIRIYAMA,Kazuya; JP
代理人:
特許業務法人 ユニアス国際特許事務所 UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; 大阪府大阪市淀川区西中島5丁目13-9 新大阪MTビル1号館2階 First Shin-Osaka MT Bldg. 2nd Floor, 5-13-9 Nishinakajima, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011, JP
優先権情報:
2018-12588102.07.2018JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE FORMER UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法
要約:
(EN) Provided are: a radiation-sensitive resin composition which can exhibit CDU performance and LWR performance at sufficient levels; and a method for forming a resist pattern. A radiation-sensitive resin composition comprising a resin, a radiation-sensitive acid generator and a solvent, wherein the resin contains a structural unit A which has an acid-labile group a including a substituted or unsubstituted alicyclic polycyclic structure and a structural unit B which is different from the structural unit A and has no monocyclic lactone structure, the alicyclic polycyclic structure has a cyclic unit formed by adjacent two rings, and, in the cyclic unit, the two rings share only one carbon atom or share adjacent two carbon atoms and does not share three or more carbon atoms or, alternatively, the two rings are bonded to each other through a single bond or a double bond.
(FR) L'invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui permet d'obtenir des performances de CDU et des performances de LWR de niveau suffisant ainsi qu'un procédé permettant de former un motif de réserve. L'invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui comprend une résine, un générateur d'acide sensible au rayonnement et un solvant, la résine contenant une unité structurale A qui possède un groupe labile en milieu acide a comprenant une structure polycyclique alicyclique éventuellement substituée et une unité structurale B qui est différente de l'unité structurale A et qui ne possède pas de structure de lactone monocyclique, la structure polycyclique alicyclique possède une unité cyclique formée par deux cycles adjacents, et, dans l'unité cyclique, les deux cycles partagent un seul atome de carbone ou partagent deux atomes de carbone adjacents et ne partagent pas trois atomes de carbone ou plus, ou, en variante, les deux cycles sont liés l'un à l'autre par l'intermédiaire d'une liaison simple ou d'une double liaison.
(JA) CDU性能やLWR性能を十分なレベルで発揮可能な感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。樹脂、感放射線性酸発生剤、及び溶剤を含み、上記樹脂は、置換又は非置換の脂環式多環構造を含む酸解離性基aを有する構造単位A、及び上記構造単位Aとは異なりかつ単環ラクトン構造を有しない構造単位Bを含み、上記脂環式多環構造は、隣接する2つの環で形成される環ユニットを有し、上記環ユニットにおいて、上記2つの環は、1つの炭素原子のみを共有し、若しくは隣接する2つの炭素原子を共有しかつ3つ以上の炭素原子を共有せず、又は上記2つの環が単結合若しくは二重結合で結合している感放射線性樹脂組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)