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1. (WO2020008977) ペリクル複合体及びその製造方法
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国際公開番号: WO/2020/008977 国際出願番号: PCT/JP2019/025423
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 26.06.2019
IPC:
G03F 1/62 (2012.01) ,G03F 1/64 (2012.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
62
ペリクル又はペリクル構造体,例.支持フレーム上に薄膜を備えるもの;その準備
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
62
ペリクル又はペリクル構造体,例.支持フレーム上に薄膜を備えるもの;その準備
64
そのフレームに特徴のあるもの,例.その構造又は材料
出願人:
株式会社カネカ KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市北区中之島二丁目3番18号 2-3-18, Nakanoshima, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288, JP
発明者:
村島 健介 MURASHIMA, Kensuke; JP
村上 睦明 MURAKAMI, Mutsuaki; JP
代理人:
特許業務法人アスフィ国際特許事務所 USFI PATENT ATTORNEYS INTERNATIONAL OFFICE; 大阪府大阪市北区堂島2丁目1番16号 フジタ東洋紡ビル9階 Fujita-Toyobo Building 9th floor, 1-16, Dojima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300003, JP
優先権情報:
2018-12934406.07.2018JP
発明の名称: (EN) PELLICLE COMPLEX AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) COMPLEXE DE PELLICULE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) ペリクル複合体及びその製造方法
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide: a pellicle complex that has fewer out-gassing occurrences; and a production method for the pellicle complex. This pellicle complex has a pellicle membrane (A) and a pellicle frame (B) joined to the pellicle membrane (A) along an outer periphery of the pellicle membrane (A), and is characterized in that the pellicle membrane (A) is a carbon membrane, the pellicle frame (B) contains at least one metal element selected from the group consisting of Ni, Fe, Mo, Ti, Mn, Ta, W, and V, and a carbon and metal element-containing layer (C) containing carbon and at least one metal element exists at the interface between the pellicle membrane (A) and the pellicle frame (B).
(FR) L'objet de la présente invention est de fournir un complexe de pellicule qui a moins d'événements de dégagement gazeux ainsi qu'un procédé de production du complexe de pellicule. Ce complexe de pellicule comporte une membrane de pellicule (A) et un cadre de pellicule (B) relié à la membrane de pellicule (A) le long d'une périphérie extérieure de la membrane de pellicule (A), et il est caractérisé en ce que la membrane de pellicule (A) est une membrane de carbone, le cadre de pellicule (B) contient au moins un élément métallique choisi dans le groupe constitué de Ni, Fe, Mo, Ti, Mn, Ta, W et V, et en ce qu'il existe au niveau de l'interface entre la membrane de pellicule (A) et le cadre de pellicule (B) une couche contenant un élément carbone et un élément métallique (C), cette couche contenant du carbone et au moins un élément métallique.
(JA) アウトガスの発生を抑制したペリクル複合体及びその製造方法を提供することを目的とする。本発明は、ペリクル膜(A)と、該ペリクル膜(A)の外縁に沿って接合されたペリクル枠(B)を有するペリクル複合体であって、前記ペリクル膜(A)は炭素膜であり、前記ペリクル枠(B)は、Ni、Fe、Mo、Ti、Mn、Ta、W、及びVよりなる群から選択される金属元素の少なくとも1種を含有し、前記ペリクル膜(A)とペリクル枠(B)の界面には、前記金属元素の少なくとも一種と炭素とを含む炭素・金属元素含有層(C)が存在することを特徴とするペリクル複合体である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)