PATENTSCOPE は、メンテナンスのため次の日時に数時間サービスを休止します。サービス休止: 月曜日 03.02.2020 (10:00 午前 CET)
国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現在ご利用になれません。
この状況が続く場合は、次のお問い合わせ先までご連絡ください。ご意見・お問い合わせ
1. (WO2020008976) ペリクル複合体及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2020/008976 国際出願番号: PCT/JP2019/025422
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 26.06.2019
IPC:
G03F 1/62 (2012.01) ,G03F 1/64 (2012.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
62
ペリクル又はペリクル構造体,例.支持フレーム上に薄膜を備えるもの;その準備
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
62
ペリクル又はペリクル構造体,例.支持フレーム上に薄膜を備えるもの;その準備
64
そのフレームに特徴のあるもの,例.その構造又は材料
出願人:
株式会社カネカ KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市北区中之島二丁目3番18号 2-3-18, Nakanoshima, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288, JP
発明者:
川島 雄樹 KAWASHIMA, Yuki; JP
村上 睦明 MURAKAMI, Mutsuaki; JP
代理人:
特許業務法人アスフィ国際特許事務所 USFI PATENT ATTORNEYS INTERNATIONAL OFFICE; 大阪府大阪市北区堂島2丁目1番16号 フジタ東洋紡ビル9階 Fujita-Toyobo Building 9th floor, 1-16, Dojima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300003, JP
優先権情報:
2018-12934306.07.2018JP
発明の名称: (EN) PELLICULAR COMPLEX AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPLEXE PELLICULAIRE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) ペリクル複合体及びその製造方法
要約:
(EN) A pellicular complex comprises a carbon film (A), a film part (B) face-to-face-bonded to one side of the carbon film, and a frame part (C) that is arranged along the outer edge of the film part (B), wherein an element constituting the frame part (C) is contained in the film part (B) as at least a part of constituent elements of the film part (B). Preferably, the element constituting the frame part (C) comprises at least one element selected from the group consisting of silicon, zirconium, niobium, molybdenum, titanium and tungsten. Preferably, the film part (B) satisfies at least one of the following requirements: a requirement that the film part (B) is a layer made from the same material as that of the frame part (C); and a requirement that the film part (B) is a layer containing both of an element constituting the frame part (C) and carbon.
(FR) La présente invention concerne un complexe pelliculaire qui comprend un film de carbone (A), une partie de film (B) liée face à face à un côté du film de carbone, et une partie de cadre (C) disposée le long du bord extérieur de la partie de film (B), un élément constituant la partie de cadre (C) étant contenu dans la partie de film (B) en tant qu'au moins une partie des éléments constitutifs de la partie de film (B). De préférence, l'élément constituant la partie de cadre (C) comprend au moins un élément choisi dans le groupe consistant en du silicium, du zirconium, du niobium, du molybdène, du titane et du tungstène. De préférence, la partie de film (B) satisfait au moins l'une des exigences suivantes : une exigence selon laquelle la partie de film (B) est une couche constituée du même matériau que celui constituant la partie de cadre (C) ; et une exigence selon laquelle la partie de film (B) est une couche contenant à la fois du carbone et un élément constituant la partie de cadre (C).
(JA) ペリクル複合体は、炭素膜(A)と、該炭素膜の片側に面接合された膜部(B)と、前記膜部(B)の外縁に沿って設けられた枠部(C)とを有し、前記枠部(C)を構成する元素が、前記膜部(B)にその構成元素の少なくとも一部として含まれる。前記枠部(C)を構成する元素が、ケイ素、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、チタン、およびタングステンからなる群より選ばれる1種以上であることが好ましい。前記膜部(B)が、枠部(C)と同じ材質の層であるか、枠部(C)を構成する元素と炭素との両方を含む層であるかの少なくとも1つを満足することが好ましい。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)