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1. (WO2020008975) 流量制御器、ガス供給系及び流量制御方法
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国際公開番号: WO/2020/008975 国際出願番号: PCT/JP2019/025367
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 26.06.2019
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01) ,G05D 7/06 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065
プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
G 物理学
05
制御;調整
D
非電気的変量の制御または調整系
7
流量の制御
06
電気的手段の使用によって特徴づけられたもの
出願人:
東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 東京都港区赤坂五丁目3番1号 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
発明者:
澤地 淳 SAWACHI, Atsushi; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2018-12610502.07.2018JP
2019-10493805.06.2019JP
発明の名称: (EN) FLOWRATE CONTROLLER, GAS SUPPLY SYSTEM, AND FLOWRATE CONTROL METHOD
(FR) DISPOSITIF DE COMMANDE DE DÉBIT, SYSTÈME D'ALIMENTATION EN GAZ ET PROCÉDÉ DE COMMANDE DE DÉBIT
(JA) 流量制御器、ガス供給系及び流量制御方法
要約:
(EN) A flowrate controller that has: a valve capable of controlling the flowrate of gas supplied to a processing device; and a valve control unit. The valve control unit: opens the valve and starts controlling the gas flowrate, when the processing device has issued a command instructing the start of gas supply; calculates a cumulative flowrate being the cumulative gas flowrate from when the command was issued, at a prescribed cycle; and closes the valve and stops gas flowrate control at the point at which the calculated cumulative flowrate has reached a prescribed target cumulative flowrate.
(FR) L'invention concerne un dispositif de commande de débit comprenant : une vanne capable de commander le débit de gaz fourni à un dispositif de traitement ; et une unité de commande de vanne. L'unité de commande de vanne : ouvre la vanne et commence à commander le débit de gaz, lorsque le dispositif de traitement a émis une instruction ordonnant le début de l'alimentation en gaz ; calcule un débit cumulatif qui est le débit de gaz cumulé à partir du moment où la commande a été émise, à un cycle prescrit ; et ferme la vanne et arrête la commande de débit de gaz au point auquel le débit cumulatif calculé a atteint un débit cumulatif cible prescrit.
(JA) 流量制御器は、処理装置に供給されるガスの流量を制御可能なバルブと、ガスの供給開始を指示する指令が処理装置から発行された時点で、バルブを開いてガスの流量の制御を開始し、指令が発行された時点から所定の周期でガスの流量を積算した積算流量を算出し、算出した積算流量が所定の目標積算流量に到達した時点で、バルブを閉じてガスの流量の制御を停止するバルブ制御部と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)