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1. (WO2020008854) ガス供給システム、プラズマ処理装置およびガス供給システムの制御方法
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国際公開番号: WO/2020/008854 国際出願番号: PCT/JP2019/023994
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 18.06.2019
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01) ,C23C 16/455 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065
プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
455
ガスを反応室に導入するため,または反応室のガス流を変えるために使われる方法に特徴があるもの
出願人:
東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 東京都港区赤坂五丁目3番1号 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
発明者:
澤地 淳 SAWACHI, Atsushi; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2018-12612702.07.2018JP
発明の名称: (EN) GAS SUPPLY SYSTEM, PLASMA PROCESSING DEVICE, AND CONTROL METHOD FOR GAS SUPPLY SYSTEM
(FR) SYSTÈME D'ALIMENTATION EN GAZ, DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA ET PROCÉDÉ DE COMMANDE POUR SYSTÈME D'ALIMENTATION EN GAZ
(JA) ガス供給システム、プラズマ処理装置およびガス供給システムの制御方法
要約:
(EN) When switching the gas to be supplied to a gas discharge unit from a first processing gas to a second processing gas, the present invention performs control so as to: open a first supply switching valve connected to the gas discharge unit and provided in a first gas supply pipe that supplies the first processing gas and a second exhaust switching valve provided in a first gas exhaust pipe branched from the first gas supply pipe; close a second supply switching valve connected to the gas discharge unit and provided in a second gas supply pipe that supplies the second processing gas and a first exhaust switching valve provided in a second gas exhaust pipe branched from the second gas supply pipe; and then open the second supply switching valve and the first exhaust switching valve and close the first supply switching valve and the second exhaust switching valve.
(FR) Lors de la commutation du gaz à fournir à une unité de sortie de gaz d'un premier gaz de traitement à un second gaz de traitement, la présente invention réalise une commande de manière à : ouvrir une première vanne de commutation d'alimentation, raccordée à l'unité de sortie de gaz et disposée dans un premier tuyau d'alimentation en gaz qui fournit le premier gaz de traitement, et une seconde vanne de commutation d'échappement, disposée dans un premier tuyau d'échappement de gaz s'embranchant sur le premier tuyau d'alimentation en gaz ; fermer une seconde vanne de commutation d'alimentation, raccordée à l'unité de sortie de gaz et disposée dans un second tuyau d'alimentation en gaz qui fournit le second gaz de traitement, et une première vanne de commutation d'échappement, disposée dans un second tuyau d'échappement de gaz s'embranchant sur le second tuyau d'alimentation en gaz ; puis ouvrir la seconde vanne de commutation d'alimentation et la première vanne de commutation d'échappement et fermer la première vanne de commutation d'alimentation et la seconde vanne de commutation d'échappement.
(JA) ガス吐出部へ供給するガスを第1の処理ガスから第2の処理ガスに切り替える場合、ガス吐出部に接続され、第1の処理ガスを供給する第1ガス供給管に設けられた第1供給切替バルブ、および、第1ガス供給管から分岐する第1ガス排気管に設けられた第2排気切替バルブを開状態とし、ガス吐出部に接続され、第2の処理ガスを供給する第2ガス供給管に設けられた第2供給切替バルブ、および、第2ガス供給管から分岐する第2ガス排気管に設けられた第1排気切替バルブを閉状態とした後、第2供給切替バルブおよび第1排気切替バルブを開状態とし、第1供給切替バルブおよび第2排気切替バルブを閉状態に制御する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)