国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現在ご利用になれません。
この状況が続く場合は、次のお問い合わせ先までご連絡ください。ご意見・お問い合わせ
1. (WO2020008704) フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材及びフッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2020/008704 国際出願番号: PCT/JP2019/016772
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 19.04.2019
IPC:
C22C 21/06 (2006.01) ,C22C 21/02 (2006.01) ,C23C 8/08 (2006.01) ,C23C 28/04 (2006.01) ,C25D 11/04 (2006.01) ,C25D 11/18 (2006.01) ,C22F 1/047 (2006.01) ,C22F 1/05 (2006.01)
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
21
アルミニウム基合金
06
次に多い成分としてマグネシウムを含むもの
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
21
アルミニウム基合金
02
次に多い成分としてけい素を含むもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
8
金属質材料表面への非金属元素のみの固相拡散;表面と反応性ガスとの反応による金属質材料の化学的表面処理,であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残すもの,例.化成被覆(conversioncoatings),金属の不働態化
06
ガスを用いるもの
08
1元素のみが用いられるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
28
メイングループC23C2/00からC23C26/00の単一のメイングループに分類されない方法によるかまたはサブクラスC23CおよびC25Dに分類される方法の組合わせによる少なくとも2以上の重ね合わせ被覆層を得るための被覆
04
無機質非金属材料のみの被覆
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
11
表面反応による電解被覆,すなわち転換層の形成
02
陽極処理
04
アルミニウムまたはアルミニウムを基とする合金
C 化学;冶金
25
電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D
電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
11
表面反応による電解被覆,すなわち転換層の形成
02
陽極処理
04
アルミニウムまたはアルミニウムを基とする合金
18
後処理,例.封孔処理
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
F
非鉄金属または非鉄合金の物理的構造の変化
1
非鉄金属または合金の熱処理によるか熱間または冷間加工による物理的構造の変化
04
アルミニウムまたはアルミニウム基合金
047
次に多い成分としてマグネシウムを含む合金
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
F
非鉄金属または非鉄合金の物理的構造の変化
1
非鉄金属または合金の熱処理によるか熱間または冷間加工による物理的構造の変化
04
アルミニウムまたはアルミニウム基合金
05
Al―Si―Mg型合金,すなわち.けい素およびマグネシウムをほぼ同じ割合で含有する合金
出願人:
昭和電工株式会社 SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 東京都港区芝大門一丁目13番9号 13-9, Shiba Daimon 1-Chome, Minato-ku, Tokyo 1058518, JP
発明者:
村瀬 功 MURASE Isao; JP
代理人:
清水 義仁 SHIMIZU Yoshihito; JP
清水 久義 SHIMIZU Hisayoshi; JP
高田 健市 TAKATA Kenichi; JP
優先権情報:
2018-12737804.07.2018JP
2018-22955607.12.2018JP
発明の名称: (EN) ALUMINUM ALLOY MEMBER FOR FORMING FLUORIDE FILM AND ALUMINUM ALLOY MEMBER HAVING FLUORIDE FILM
(FR) ÉLÉMENT EN ALLIAGE D'ALUMINIUM POUR FORMER UN FILM DE FLUORURE ET ÉLÉMENT EN ALLIAGE D'ALUMINIUM COMPRENANT UN FILM DE FLUORURE
(JA) フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材及びフッ化物皮膜を有するアルミニウム合金部材
要約:
(EN) Provided is an aluminum alloy member that is for forming a fluoride film, and that has excellent smoothness without occurrence of a black dot-shaped bulged portion, and excellent corrosion resistance against a corrosive gas, plasma, etc. This aluminum alloy member 1 for forming a fluoride film for a semiconductor production device contains 0.3-0.8 mass% of Si, 0.5-5.0 mass% of Mg, and 0.05-0.5 mass% of Fe, the balance being Al and incidental impurities, wherein the Cu content thereof is 0.5 mass% or less, the Mn content thereof is 0.30 mass% or less, the Cr content thereof is 0.30 mass% or less, and the relationship formula log10Y < -0.320D + 4.60 is satisfied, where "D" (μm) represents the average major axis length of Fe-based crystallized products in the aluminum alloy member, and "Y" (μm) represents the average crystal grain size in the aluminum alloy member. A fluoride film 2 is formed on at least a portion of the surface of the aluminum alloy member 1 for forming a fluoride film.
(FR) L'invention concerne un élément en alliage d'aluminium qui est destiné à la formation d'un film de fluorure, et qui présente une excellente régularité sans apparition d'une partie bombée en forme de point noir, et une excellente résistance à la corrosion contre un gaz corrosif, un plasma, etc. Cet élément d'alliage d'aluminium 1 destiné à la formation d'un film de fluorure pour un dispositif de production de semiconducteur contient de 0,3 à 0,8 % en masse de Si, de 0,5 à 5,0 % en masse de Mg, et de 0,05 à 0,5 % en masse de Fe, le reste étant de l'Al et des impuretés accidentelles, sa teneur en Cu étant inférieure ou égale à 0,5 % en masse, sa teneur en Mn étant inférieure ou égale à 0,30 % en masse, sa teneur en Cr étant inférieure ou égale à 0,30 % en masse, et la formule de relation log10Y < -0,320 D + 4,60 étant satisfaite, "D" (µm) représentant la longueur moyenne de l'axe majeur des produits cristallisés à base de Fe dans l'élément en alliage d'aluminium, et "Y" (μm) représentant la taille moyenne des grains cristallins dans l'élément en alliage d'aluminium. Un film de fluorure 2 est formé sur au moins une partie de la surface de l'élément en alliage d'aluminium 1 pour former un film de fluorure.
(JA) 黒色の点状隆起部の発生がなく平滑性に優れると共に、腐食性ガスやプラズマ等に対して優れた耐食性を備えたフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材を提供する。 半導体製造装置用のフッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材1は、Si:0.3質量%~0.8質量%、Mg:0.5質量%~5.0質量%、Fe:0.05質量%~0.5質量%を含有し、Cuの含有率が0.5質量%以下であり、Mnの含有率が0.30質量%以下であり、Crの含有率が0.30質量%以下であり、残部がAl及び不可避不純物からなり、アルミニウム合金部材中のFe系晶出物の平均長径を「D」(μm)とし、前記アルミニウム合金部材中の平均結晶粒径を「Y」(μm)としたとき、log10Y<-0.320D+4.60の関係式を満たす構成とする。前記フッ化物皮膜形成用アルミニウム合金部材1の表面の少なくとも一部にフッ化物皮膜2を形成する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)