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国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2020008588) 表示装置及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2020/008588 国際出願番号: PCT/JP2018/025501
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 05.07.2018
IPC:
G09F 9/00 (2006.01) ,G09F 9/30 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,H05B 33/06 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/22 (2006.01)
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
30
必要な文字が個々の要素を組み合わせることによって形成されるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
28
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる構成部品を含むもの
32
光放出に特に適用される構成部品を有するもの,例.有機発光ダイオードを使用したフラットパネル・ディスプレイ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
06
電極端子
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
22
補助的な誘電体または反射層の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
岡部 達 OKABE Tohru; --
齋田 信介 SAIDA Shinsuke; --
市川 伸治 ICHIKAWA Shinji; --
郡司 遼佑 GUNJI Ryosuke; --
谷山 博己 TANIYAMA Hiroki; --
神村 浩治 JINMURA Hiroharu; --
井上 彬 INOUE Akira; --
谷村 康治 TANIMURA Koji; --
小原 義博 KOHARA Yoshihiro; --
仲田 芳浩 NAKADA Yoshihiro; --
代理人:
特許業務法人前田特許事務所 MAEDA & PARTNERS; 大阪府大阪市北区堂島浜1丁目2番1号 新ダイビル23階 Shin-Daibiru Bldg. 23F, 2-1, Dojimahama 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300004, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(JA) 表示装置及びその製造方法
要約:
(EN) In the present invention, a slit (S) is formed, in a bent section in a frame region (F), in at least one layer of an inorganic insulating film constituting a TFT layer, a frame flattening film (8) is provided so as to fill the slit (S), a plurality of connection wirings (18h) are provided on the frame flattening film (8), a TFT flattening film (19) is provided in a band shape on each of the connection wirings (18h), and each of the connection wirings (18h) is provided so as to conform with the band-shaped portion of the TFT flattening film (19).
(FR) Selon l’invention, une fente (S) est formée, dans une section courbée dans une zone de cadre (F), dans au moins une couche d'un film isolant inorganique constituant une couche TFT, un film aplatissant de cadre (8) est disposé de façon à remplir la fente (S), une pluralité de câblages de connexion (18h) sont disposés sur le film aplatissant de cadre (8), un film aplatissant de TFT (19) est disposé en forme de bande sur chacun des câblages de connexion (18h), et chacun des câblages de connexion (18h) est disposé de façon à se conformer à la partie en forme de bande du film aplatissant de TFT (19).
(JA) 額縁領域(F)の折り曲げ部において、TFT層を構成する少なくとも一層の無機絶縁膜にスリット(S)が形成され、そのスリット(S)を埋めるように額縁平坦化膜(8)が設けられ、その額縁平坦化膜(8)上に複数の接続配線(18h)が設けられ、各接続配線(18h)上にTFT平坦化膜(19)が帯状に設けられ、各接続配線(18h)がTFT平坦化膜(19)の帯状の部分と整合するように設けられている。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)