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1. (WO2020008492) 走査電子顕微鏡
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国際公開番号: WO/2020/008492 国際出願番号: PCT/JP2018/025029
国際公開日: 09.01.2020 国際出願日: 02.07.2018
IPC:
H01J 37/21 (2006.01) ,H01J 37/244 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
21
焦点を調整するための手段
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
244
検出器;関連の構成要素またはそのための回路
出願人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
早田 康成 SOHDA Yasunari; JP
備前 香織 BIZEN Kaori; JP
安部 悠介 ABE Yusuke; JP
谷本 憲史 TANIMOTO Kenji; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
(FR) MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE
(JA) 走査電子顕微鏡
要約:
(EN) To make it possible, in a scanning electron microscope in which an electron beam having a high energy is used, to correct the focal point at a high speed. This invention has: an electron optical system including an objective lens 113 and an electron source 100 for releasing an electron beam 116; a sample stand 1025 disposed on a stage 115, a sample 114 being placed on the sample stand 1025; a reflected electron detector 1023 disposed between the objective lens and the sample stand, the reflected electron detector 1023 detecting reflected electrons 1017 released by an interaction between the electron beam and the sample; a reflected electron detection system control unit 138 provided so as to correspond to the reflected electron detector, the reflected electron detection system control unit applying a voltage onto the reflected electron detector; and a device control computation device 146. The objective lens has an opening in the stage direction, and the device control computation device controls the voltage applied from the reflected electron detection system control unit to the reflected electron detector and thereby performs a correction of the focal point of the electron beam.
(FR) La présente invention concerne un microscope électronique à balayage dans lequel est utilisé un faisceau d'électrons à haute énergie, rendant possible une correction du point de foyer à grande vitesse. La présente invention fait appel à : un système électro-optique comprenant une lentille d'objectif 113 et une source d'électrons 100 servant à libérer un faisceau d'électrons 116 ; un porte-échantillon 1025 disposé sur une platine 115, un échantillon 114 étant placé sur le porte-échantillon 1025 ; un détecteur 1023 d'électrons réfléchis disposé entre la lentille d'objectif et le porte-échantillon, le détecteur 1023 d'électrons réfléchis détectant les électrons réfléchis 1017 libérés par une interaction entre le faisceau d'électrons et l'échantillon ; une unité de commande 138 de système de détection d'électrons réfléchis disposée de façon à correspondre au détecteur d'électrons réfléchis, l'unité de commande de système de détection d'électrons réfléchis appliquant une tension au détecteur d'électrons réfléchis ; et un dispositif de calcul 146 de commande de dispositif. La lentille d'objectif comporte une ouverture dans la direction de platine, et le dispositif de calcul de commande de dispositif commande la tension appliquée par l'unité de commande de système de détection d'électrons réfléchis au détecteur d'électrons réfléchis et exécutant ainsi une correction du point foyer du faisceau d'électrons.
(JA) エネルギーの高い電子ビームを使用する走査電子顕微鏡においても、高速な焦点補正が可能とする。電子ビーム116を放出する電子源100と対物レンズ113とを含む電子光学系と、ステージ115上に配置され、試料114を載置する試料台1025と、対物レンズと試料台との間に配置され、電子ビームと試料との相互作用により放出される反射電子1017を検出する反射電子検出器1023と、反射電子検出器に対応して設けられ、反射電子検出器に電圧を印加する反射電子検出系制御部138と、装置制御演算装置146とを有し、対物レンズは、ステージ方向に開口を有し、装置制御演算装置は、反射電子検出系制御部から反射電子検出器に印加する電圧を制御することにより、電子ビームの焦点補正を行う。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)