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1. WO2020004569 - エッチング装置

公開番号 WO/2020/004569
公開日 02.01.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/025660
国際出願日 27.06.2019
IPC
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
15
繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,エッチングによる表面処理
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
F
機械方法によらない表面からの金属質材料の除去;金属質材料の防食;鉱皮の抑制一般;少なくとも一工程はクラスC23に分類され,少なくとも一工程はサブクラスC21DもしくはC22FまたはクラスC25に包含される金属質材料の表面処理の多段階工程
1
化学的手段による金属質材料のエッチング
08
装置,例.写真製版
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
C03C 15/00 (2006.01)
C23F 1/08 (2006.01)
H01L 21/306 (2006.01)
CPC
C03C 15/00
C23F 1/08
H01L 21/306
出願人
  • 株式会社NSC NSC CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府豊中市利倉1丁目1番1号 1-1-1, Tokura, Toyonaka-shi, Osaka 5610845, JP
発明者
  • 竹内 一馬 TAKEUCHI Kazuma; --
優先権情報
2018-12380729.06.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ETCHING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GRAVURE
(JA) エッチング装置
要約
(EN)
[Problem] To provide an etching device that performs etching on a to-be-processed substrate such as a glass substrate while said to-be-processed substrate is being transferred, and that is capable of preventing the interior of a processing chamber from being soiled. [Solution] This etching device 10 is configured to spray an etching liquid on a glass substrate 24 being transferred in a prescribed direction, and is provided with a conveyor roller 30, a spray unit 32, and a plurality of etching chambers 161, 162. The conveyor roller 30 is configured to transfer the glass substrate 24 toward a prescribed direction. The spray unit 32 is configured to spray an etching liquid on the glass substrate 24 positioned on the conveyor roller 30. The etching chambers 161, 162 are configured to house therein at least the conveyor roller 30 and the spray unit 32, and have a transparent ceiling part 40 having an arc-shaped cross-section.
(FR)
Le problème décrit par la présente invention concerne un dispositif de gravure qui réalise une gravure sur un substrat à traiter, tel qu'un substrat de verre, pendant que ledit substrat à traiter est transféré et qui est en mesure d'empêcher l'encrassement de l'intérieur d'une chambre de traitement. La solution selon l'invention porte sur un dispositif de gravure 10 qui est conçu pour pulvériser un liquide de gravure sur un substrat de verre 24 qui est transféré dans une direction prescrite et qui est pourvu d'un rouleau de transport 30, d'une unité de pulvérisation 32 et d'une pluralité de chambres de gravure 161, 162. Le rouleau de transport 30 est conçu pour transférer le substrat de verre 24 dans une direction prescrite. L'unité de pulvérisation 32 est conçue pour pulvériser un liquide de gravure sur le substrat de verre 24 positionné sur le rouleau de transport 30. Les chambres de gravure 161, 162 sont conçues pour loger en leur sein au moins le rouleau de transport 30 et l'unité de pulvérisation 32 et présentent une partie de plafond transparente 40 présentant une section transversale arquée.
(JA)
【課題】ガラス基板等の被処理基板を搬送しながらエッチング処理を行うエッチング装置において、処理チャンバ内の汚損を防止することが可能なエッチング装置を提供する。 【解決手段】エッチング装置10は、所定方向に搬送されているガラス基板24に対してエッチング液を噴射するように構成されたエッチング装置であり、搬送ローラ30、スプレイユニット32および複数のエッチングチャンバ161,162を備えている。搬送路ローラ30は、ガラス基板24を所定の搬送方向に向かって搬送するように構成される。スプレイユニット32は、搬送ローラ30上のガラス基板24に対してエッチング液を噴射するように構成される。エッチングチャンバ161,162は、搬送ローラ30およびスプレイユニット32を少なくとも内部に収容するように構成され、断面視円弧状でかつ透明性を備えた天井部40を少なくとも有する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報