国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2020004503) ポジ型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及びポジ型感光性樹脂組成物
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国際公開番号: WO/2020/004503 国際出願番号: PCT/JP2019/025478
国際公開日: 02.01.2020 国際出願日: 26.06.2019
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,B41C 1/10 (2006.01) ,B41N 1/14 (2006.01) ,C08G 18/34 (2006.01) ,C08G 18/38 (2006.01) ,C08G 18/48 (2006.01) ,C08G 18/66 (2006.01) ,C08G 18/73 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
C
印刷版面の製作または複製方法
1
印刷版の製作
10
平版印刷用;平版像を版に転写するためのマスターシート
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
1
印刷版またはフォイル;その材料
12
石以外の非金属
14
平版印刷フォイル
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
18
イソシアネートまたはイソチオシアネートの重合生成物
06
活性水素を有する化合物との
28
活性水素含有使用化合物に特徴のあるもの
30
低分子量化合物
34
カルボン酸;そのモノヒドロキシ化合物とのエステル
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
18
イソシアネートまたはイソチオシアネートの重合生成物
06
活性水素を有する化合物との
28
活性水素含有使用化合物に特徴のあるもの
30
低分子量化合物
38
酸素以外の異種原子を有するもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
18
イソシアネートまたはイソチオシアネートの重合生成物
06
活性水素を有する化合物との
28
活性水素含有使用化合物に特徴のあるもの
40
高分子量化合物
48
ポリエーテル
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
18
イソシアネートまたはイソチオシアネートの重合生成物
06
活性水素を有する化合物との
28
活性水素含有使用化合物に特徴のあるもの
65
活性水素を有する高分子量化合物を含む活性水素を有する低分子量化合物
66
グループ18/42,18/48または18/52の化合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
18
イソシアネートまたはイソチオシアネートの重合生成物
06
活性水素を有する化合物との
70
用いられたイソシアネートまたはイソチオシアネートに特徴のあるもの
72
ポリイソシアネートまたはポリイソチオシアネート
73
非環式
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
小山 一郎 KOYAMA, Ichiro; JP
栢木 加奈 KAYAKI, Kana; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2018-12252927.06.2018JP
発明の名称: (EN) POSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) PRÉCURSEUR POSITIF DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE
(JA) ポジ型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及びポジ型感光性樹脂組成物
要約:
(EN) Provided is a positive lithographic printing plate precursor having a support, and an image recording layer formed on the support, wherein the image recording layer has a polycondensation resin or a polyaddition resin. The positive lithographic printing plate precursor includes: a binder polymer which has an acid group on a side chain thereof, and a base group on at least one among a side chain and a main chain thereof, and which has a pKa of the acid group 9 or lower; and an infrared absorber. Also provided are a positive photosensitive resin composition and a method for manufacturing a lithographic printing plate using the positive lithographic printing plate precursor.
(FR) L'invention concerne un précurseur positif de plaque d'impression lithographique ayant un support et une couche d'enregistrement d'image formée sur le support, la couche d'enregistrement d'image ayant une résine de polycondensation ou une résine de polyaddition. Le précurseur positif de plaque d'impression lithographique comprend : un polymère liant qui possède un groupe acide sur une de ses chaînes latérales et un groupe basique sur au moins une chaîne parmi une chaîne latérale et une chaîne principale de celui-ci, et dont le pKa du groupe acide est de 9 ou moins ; et un absorbeur d'infrarouges. L'invention concerne également une composition de résine photosensible positive et un procédé de fabrication d'une plaque d'impression lithographique utilisant le précurseur positif de plaque d'impression lithographique.
(JA) 支持体と、支持体上に形成された画像記録層と、を有し、上記画像記録層が、重縮合樹脂又は重付加樹脂であり、酸基を側鎖に有し、塩基基を主鎖及び側鎖の少なくとも一方に有し、上記酸基のpKaが9以下であるバインダーポリマーと、赤外線吸収剤と、を含む、ポジ型平版印刷版原版、及び、ポジ型感光性樹脂組成物、並びに、上記ポジ型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)