国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現在ご利用になれません。
この状況が続く場合は、次のお問い合わせ先までご連絡ください。ご意見・お問い合わせ
1. (WO2020004478) 静電チャック
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2020/004478 国際出願番号: PCT/JP2019/025413
国際公開日: 02.01.2020 国際出願日: 26.06.2019
IPC:
H01L 21/683 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01) ,H02N 13/00 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683
支持または把持のためのもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065
プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
H 電気
02
電力の発電,変換,配電
N
他類に属しない電機
13
静電気の吸引力を用いたクラッチ,把持装置,例.ジョンソン一ラーベック効果を用いたもの
出願人:
北陸成型工業株式会社 HOKURIKU SEIKEI INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 石川県小松市花坂町リ80番地 Ri 80, Hanasaka-machi, Komatsu-shi, Ishikawa 9230157, JP
アリオンテック株式会社 ALIONTEK CORPORATION [JP/JP]; 山形県山形市みはらしの丘2丁目37番1号 37-1, Miharashinooka 2-chome, Yamagata-shi, Yamagata 9902317, JP
発明者:
鈴木 智久 SUZUKI, Tomohisa; JP
宮原 陸人 MIYAHARA, Michito; JP
佐々木 優 SASAKI, Masaru; JP
代理人:
特許業務法人 英和特許事務所 EIWA PATENT FIRM; 福岡県福岡市博多区博多駅前一丁目1-1 博多新三井ビル 4階 Hakata-Shin-mitsui bldg., 1-1-1, Hakataekimae, Hakata-ku, Fukuoka-shi, Fukuoka 8120011, JP
優先権情報:
2018-12502529.06.2018JP
発明の名称: (EN) ELECTROSTATIC CHUCK
(FR) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 静電チャック
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide an electrostatic chuck that can be manufactured at low cost and can securely prevent arcing even if the main body of the electrostatic chuck is thin. This electrostatic chuck is provided with an electrostatic chuck main body 1, an arcing prevention member 2, and a metal base member 3. The electrostatic chuck main body 1 and the metal base member 3 are provided with a plurality of vertical cooling gas holes 5. The arcing prevention member 2 comprises: a ceramic plate-shaped body 12 through which a plurality of fine holes 20–100 µm in diameter pass; and an exterior member 13 that secures the ceramic plate-shaped body 12 and is disposed in an upper part of the vertical cooling gas holes 5. The ceramic plate-shaped body 12 is thicker than the electrostatic chuck main body 1.
(FR) L’objet de la présente invention est de réaliser un mandrin électrostatique qui peut être fabriqué à faible coût et peut prévenir de manière sûre la formation d’arc électrique même si le corps principal du mandrin électrostatique est mince. Ce mandrin électrostatique comporte un corps principal (1) de mandrin électrostatique, un organe de prévention (2) de formation d’arc électrique, et un organe de base (3) en métal. Le corps principal (1) de mandrin électrostatique et l’organe de base (3) en métal comportent une pluralité de trous de gaz de refroidissement (5) verticaux. L’organe de prévention (2) de formation d’arc électrique comprend : un corps en forme de plaque (12) en céramique à travers lequel passent une pluralité de trous fins dont le diamètre est compris entre 20 et 100 µm ; et un organe extérieur (13) qui fixe le corps en forme de plaque (12) en céramique et qui est disposé dans une partie supérieure des trous de gaz de refroidissement (5) verticaux. Le corps en forme de plaque (12) en céramique est plus épais que le corps principal (1) de mandrin électrostatique.
(JA) 本発明は、低コストで製造でき、かつ、静電チャック本体が薄くても確実にアーキングを防止できる静電チャックの提供を目的とする。 本発明の静電チャックは、静電チャック本体1と、アーキング防止部材2と、金属製ベース部材3を備え、静電チャック本体1及び金属製ベース部材3には、複数の冷却ガス用縦穴5が設けられ、アーキング防止部材2は直径20~100μmの細孔が複数個貫通しているセラミックス製板状体12及びセラミックス製板状体12を固定する外装部材13からなり、冷却ガス用縦穴5の上部に配置されており、セラミックス製板状体12の厚さが、静電チャック本体1の厚さより厚くなっている。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)