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国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2020004396) パターン印刷用レジスト組成物及びパターン形成方法
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国際公開番号: WO/2020/004396 国際出願番号: PCT/JP2019/025188
国際公開日: 02.01.2020 国際出願日: 25.06.2019
IPC:
H05K 3/06 (2006.01) ,B41M 1/12 (2006.01) ,C09D 11/101 (2014.01) ,C09D 11/106 (2014.01) ,H01L 31/0224 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
02
導電性物質が絶縁支持部材の表面に施されその後電流の伝導や遮へいのために使わない部分が表面から取り除かれるもの
06
導電性物質が化学的にまたは電気分解により取り除かれるもの,例.ホトエッチング法
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
M
印刷,複製,マーキングまたは複写方法;カラー印刷
1
版を備えた印刷機のインキ付けおよび印刷
12
ステンシル印刷;シルクスクリーン印刷
[IPC code unknown for C09D 11/101][IPC code unknown for C09D 11/106]
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31
赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
02
細部
0224
電極
出願人:
株式会社カネカ KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市北区中之島二丁目3番18号 2-3-18, Nakanoshima, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288, JP
発明者:
玉井 仁 TAMAI Hitoshi; JP
兼松 正典 KANEMATSU Masanori; JP
岡本 紳平 OKAMOTO Shimpei; JP
代理人:
新山 雄一 NIIYAMA Yuichi; JP
加藤 竜太 KATO Ryuta; JP
優先権情報:
2018-12404629.06.2018JP
発明の名称: (EN) PATTERN-PRINTING RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE D'IMPRESSION DE MOTIFS ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS
(JA) パターン印刷用レジスト組成物及びパターン形成方法
要約:
(EN) This pattern-printing resist composition comprises a binder, a filler, a thickening agent, and a polyfunctional (meth)acrylate, does not include a photo initiator, and further contains photocatalytic titanium oxide. This pattern forming method is characterized in that, after the resist composition has been pattern-printed, an active energy beam is irradiated to suppress a seep-out from a pattern end during pattern formation with the resist composition, and to break down a seep-out portion. This makes it possible to drastically reduce the seep-out without detracting from the rheology of the resist composition, and to remove a slightly seeped-out portion without requiring a harmful ozone treatment or the like.
(FR) Cette composition de réserve d'impression de motifs comprend un liant, une charge, un agent épaississant et un (méth)acrylate polyfonctionnel, ne comprend pas de photo-initiateur, et contient en outre de l'oxyde de titane photocatalytique. Ce procédé de formation de motifs est caractérisé en ce que, après que la composition de réserve a fait l'objet d'une impression de motifs, un faisceau d'énergie active est irradié pour supprimer un suintement d'une extrémité de motif pendant la formation de motifs avec la composition de réserve, et pour décomposer une partie de suintement. Ceci permet de réduire de manière spectaculaire le suintement sans nuire à la rhéologie de la composition de réserve, et d'éliminer une partie légèrement suintée sans nécessiter de traitement à l'ozone nocif ou similaire.
(JA) バインダーと、フィラーと、増粘剤と、多官能性(メタ)アクリレートとを含み、光開始剤を含まず、さらに光触媒型酸化チタンを含有するパターン印刷用レジスト組成物及び該レジスト組成物をパターン印刷後、活性エネルギー線を照射することで、レジスト組成物でのパターン形成時における、パターン端部からの染み出しを抑制しかつ染み出し部を分解することを特徴とするパターン形成方法である。レジスト組成物のレオロジーを損なうことなく、前記染み出しを劇的に少なくすると共に、僅かに染み出した部分についても、例えば、有毒なオゾン処理等の必要性が無く、除去出来る。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)