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1. WO2020004392 - 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及びフォトマスク

公開番号 WO/2020/004392
公開日 02.01.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/025174
国際出願日 25.06.2019
IPC
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G03F 7/004 (2006.01)
G03F 7/039 (2006.01)
G03F 7/20 (2006.01)
CPC
G03F 7/004
G03F 7/039
G03F 7/20
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者
  • 石原 英幸 ISHIHARA Hideyuki; JP
  • 高橋 年哉 TAKAHASHI Toshiya; JP
代理人
  • 特許業務法人航栄特許事務所 KOH-EI PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング9階 Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
優先権情報
2018-12541929.06.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ACTIVE-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMATION METHOD, AND PHOTOMASK
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTIFS OU AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE AUX RAYONS ACTIFS OU AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PHOTOMASQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及びフォトマスク
要約
(EN)
The present invention provides: an active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that includes, as a solvent, ethyl lactate in which the proportion of either an L body or D body of an optical isomer is 1% or more greater than the proportion of the other of the L body and the D body; an active-ray-sensitive or radiation-sensitive film formed using the active-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a pattern formation method; a photomask; and a method for manufacturing an electronic device.
(FR)
La présente invention concerne : une composition de résine sensible aux rayons actifs ou au rayonnement qui comprend, en tant que solvant, du lactate d'éthyle dans lequel la proportion d'un corps L ou d'un corps D d'un isomère optique est supérieure de 1 % ou plus à la proportion de l'autre corps parmi le corps L ou le corps D ; un film sensible aux rayons actifs ou au rayonnement formé à l'aide de la composition de résine sensible aux rayons actifs ou au rayonnement ; un procédé de formation de motif ; un photomasque ; et un procédé de fabrication d'un dispositif électronique.
(JA)
本発明は、光学異性体のL体またはD体のうち、一方の比率が他方の比率より1%以上高い乳酸エチルを溶剤として含む、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて形成された感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、フォトマスク、及び電子デバイスの製造方法を提供する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報