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1. WO2020004335 - 成膜装置及び成膜方法

公開番号 WO/2020/004335
公開日 02.01.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/024972
国際出願日 24.06.2019
IPC
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
56
連続被覆のために特に適合した装置;真空を維持するための装置,例.真空ロック
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
C23C 14/56 (2006.01)
C23C 14/04 (2006.01)
CPC
C23C 14/04
C23C 14/56
出願人
  • 株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP/JP]; 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
発明者
  • 木本 孝仁 KIMOTO, Takahito; JP
  • 横山 礼寛 YOKOYAMA, Akihiro; JP
  • 廣野 貴啓 HIRONO, Takayoshi; JP
  • 藤井 智晴 FUJII, Tomoharu; JP
  • 齋藤 和彦 SAITOU, Kazuhiko; JP
代理人
  • 大森 純一 OMORI, Junichi; JP
優先権情報
2018-12428129.06.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) FILM-FORMING DEVICE AND FILM-FORMING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置及び成膜方法
要約
(EN)
The film-forming device according to one embodiment of the present invention has a first transfer mechanism, a second transfer mechanism, and a film-forming part. The first transfer mechanism transfers an elongated base material. The second transfer mechanism transfers, at a film-forming position, a pair of tape-like masks that covers both widthwise ends of a film-forming surface of the base material. The film-forming part has a film deposition source disposed so as to face the film-forming position, and forms a thin film on the film-forming surface and the pair of tape-like masks.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif de formation de film lequel comprend, selon un mode de réalisation de la présente invention, un premier mécanisme de transfert, un second mécanisme de transfert et une partie de formation de film Le premier mécanisme de transfert transfère un matériau de base allongé. Le second mécanisme de transfert transfère, au niveau d'une position de formation de film, une paire de masques de type bande qui couvrent les deux extrémités dans le sens de la largeur d'une surface de formation de film du matériau de base. La partie de formation de film a une source de dépôt de film disposée de façon à faire face à la position de formation de film et forme un film mince sur la surface de formation de film et la paire de masques de type bande.
(JA)
本発明の一形態に係る成膜装置は、第1の搬送機構と、第2の搬送機構と、成膜部とを有する。上記第1の搬送機構は、長尺の基材を搬送する。上記第2の搬送機構は、成膜位置において、上記基材の成膜面の幅方向両端を被覆する一対のテープ状マスクを搬送する。上記成膜部は、上記成膜位置に対向して設けられた成膜源を有し、上記成膜面と上記一対のテープ状マスクに薄膜を形成する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報