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1. (WO2020004323) 偏光フィルム及びその製造方法
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国際公開番号: WO/2020/004323 国際出願番号: PCT/JP2019/024943
国際公開日: 02.01.2020 国際出願日: 24.06.2019
IPC:
G02B 5/30 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
30
偏光要素
出願人:
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246, JP
発明者:
猪股 貴道 INOMATA, Takamichi; JP
眞島 啓 MASHIMA, Hiromu; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2018-12373028.06.2018JP
発明の名称: (EN) POLARIZING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) FILM POLARISANT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 偏光フィルム及びその製造方法
要約:
(EN) A polarizing film provided with a polarizer layer and a first resin layer in direct contact with the polarizer layer, the first resin layer being formed from a first resin having a storage modulus of 10 MPa to 1000 MPa measured with the resin in the form of a film having a thickness of 1 mm.
(FR) L'invention concerne un film polarisant pourvu d'une couche de polariseur et d'une première couche de résine en contact direct avec la couche de polariseur, la première couche de résine étant formée à partir d'une première résine ayant un module de conservation de 10 MPa à 1000 MPa mesuré avec la résine sous la forme d'un film ayant une épaisseur de 1 mm.
(JA) 偏光子層と、前記偏光子層に直に接している第一樹脂層と、を備え、前記第一樹脂層が、厚み1mmのフィルムとして測定される貯蔵弾性率が10MPa以上1000MPa以下である第一樹脂で形成されている、偏光フィルム。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)