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1. (WO2020004091) プラズマ処理装置、プラズマ状態検出方法およびプラズマ状態検出プログラム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2020/004091 国際出願番号: PCT/JP2019/023793
国際公開日: 02.01.2020 国際出願日: 17.06.2019
IPC:
H05H 1/00 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01) ,H05H 1/46 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
H
プラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1
プラズマの生成;プラズマの取扱い
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065
プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
H 電気
05
他に分類されない電気技術
H
プラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1
プラズマの生成;プラズマの取扱い
24
プラズマの発生
46
電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー
出願人:
東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 東京都港区赤坂五丁目3番1号 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
発明者:
林 大輔 HAYASHI, Daisuke; JP
梅澤 義弘 UMEZAWA, Yoshihiro; JP
岡 信介 OKA, Shinsuke; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2018-12489629.06.2018JP
2019-03201325.02.2019JP
2019-09960928.05.2019JP
発明の名称: (EN) PLASMA PROCESSING DEVICE, PLASMA STATE DETECTION METHOD, AND PLASMA STATE DETECTION PROGRAM
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA, PROCÉDÉ DE DÉTECTION D'ÉTAT DE PLASMA, ET PROGRAMME DE DÉTECTION D'ÉTAT DE PLASMA
(JA) プラズマ処理装置、プラズマ状態検出方法およびプラズマ状態検出プログラム
要約:
(EN) A measurement unit controls, with a heater control unit, the power supplied to a heater, so that the temperature of the heater is constant, and measures the power supplied in an unignited state in which the plasma is not ignited, and in an excess state in which the power supplied to the heater after the plasma is ignited is reduced. Using the power supplied in the unignited state and in the excess state, measured by the measurement unit, a parameter calculation unit performs fitting to a calculation model for calculating the power supplied in the excess state, the calculation model including the heat input amount from the plasma as a parameter, and calculates the heat input amount. An output unit outputs information based on the heat input amount calculated by the parameter calculation unit.
(FR) Selon l'invention, une unité de mesure commande, au moyen d'une unité de commande d'élément chauffant, la puissance fournie à un élément chauffant, de sorte que la température de l'élément chauffant soit constante, et mesure la puissance fournie dans un état de non-ignition dans lequel le plasma n'est pas en ignition, et dans un état en excès dans lequel il y a une baisse de la puissance fournie à l'élément chauffant après l'allumage du plasma. À l'aide de la puissance fournie dans l'état de non-ignition et dans l'état en excès, mesurée par l'unité de mesure, une unité de calcul de paramètre applique un ajustement à un modèle de calcul pour calculer la puissance fournie dans l'état en excès, le modèle de calcul comprenant la quantité d'entrée de chaleur issue du plasma en tant que paramètre, et calcule la quantité d'entrée de chaleur. Une unité de sortie délivre des informations sur la base de la quantité d'entrée de chaleur calculée par l'unité de calcul de paramètre.
(JA) 計測部は、ヒーター制御部により、ヒーターの温度が一定となるようヒーターへの供給電力を制御して、プラズマを点火して無い未点火状態と、プラズマを点火してからヒーターへの供給電力が低下する過渡状態での供給電力を計測する。パラメータ算出部は、プラズマからの入熱量をパラメータとして含み、過渡状態の供給電力を算出する算出モデルに対して、計測部により計測された未点火状態と過渡状態の供給電力を用いてフィッティングを行って、入熱量を算出する。出力部は、パラメータ算出部により算出された入熱量に基づく情報を出力する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)