国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現在ご利用になれません。
この状況が続く場合は、次のお問い合わせ先までご連絡ください。ご意見・お問い合わせ
1. (WO2020004035) ポジ型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及びポジ型感光性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2020/004035 国際出願番号: PCT/JP2019/023255
国際公開日: 02.01.2020 国際出願日: 12.06.2019
IPC:
G03F 7/033 (2006.01) ,B41N 1/14 (2006.01) ,C08F 220/02 (2006.01) ,C08F 220/34 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/095 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
033
結合剤が炭素-炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの,例.ビニル重合体
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
1
印刷版またはフォイル;その材料
12
石以外の非金属
14
平版印刷フォイル
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
34
窒素を含有するエステル
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
095
2つ以上の感光層をもつもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
小山 一郎 KOYAMA, Ichiro; JP
栢木 加奈 KAYAKI, Kana; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2018-12253127.06.2018JP
発明の名称: (EN) POSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, METHOD FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) PRÉCURSEUR POSITIF DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE
(JA) ポジ型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及びポジ型感光性樹脂組成物
要約:
(EN) Provided is a positive lithographic printing plate precursor having a support, and an image recording layer formed on the support, wherein the image recording layer includes a structural unit having an acid group having a pKa of 7 or less, and a structural unit having a base group, wherein the precursor contains: a binder polymer which is an addition polymerization-type resin in which at least one among the acid group of the structural unit having the acid group and the base group of the structural unit having the base group binds to a main chain via a linking group; and an infrared absorber. Also provided are a positive photosensitive resin composition, and a method for producing a lithographic printing plate using the positive lithographic printing plate precursor.
(FR) L'invention concerne un précurseur positif de plaque d'impression lithographique ayant un support et une couche d'enregistrement d'image formée sur le support, la couche d'enregistrement d'image comprenant une unité structurale ayant un groupe acide ayant un pKa de 7 ou moins, et une unité structurale ayant un groupe basique, le précurseur contenant : un polymère liant qui est une résine de type polymérisation par addition dans laquelle au moins l'un des groupes que sont le groupe acide de l'unité structurale ayant le groupe acide et le groupe basique de l'unité structurale ayant le groupe basique se lie à une chaîne principale par l'intermédiaire d'un groupe de liaison ; et un absorbeur d'infrarouges. L'invention concerne également une composition de résine photosensible positive et un procédé de production d'une plaque d'impression lithographique utilisant le précurseur positif de plaque d'impression lithographique.
(JA) 支持体と、支持体上に形成された画像記録層と、を有し、上記画像記録層が、pKaが7以下である酸基を有する構成単位と塩基基を有する構成単位とを含み、上記酸基を有する構成単位の酸基及び上記塩基基を有する構成単位の塩基基の少なくとも一方が連結基を介して主鎖に結合した付加重合型樹脂である、バインダーポリマーと、赤外線吸収剤と、を含む、ポジ型平版印刷版原版、及び、ポジ型感光性樹脂組成物、並びに、上記ポジ型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)