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1. (WO2020003675) 全反射蛍光X線分析装置及び測定方法
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国際公開番号: WO/2020/003675 国際出願番号: PCT/JP2019/014524
国際公開日: 02.01.2020 国際出願日: 01.04.2019
IPC:
G01N 23/223 (2006.01) ,G01B 15/02 (2006.01) ,G01N 23/20 (2018.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
22
二次放射の測定によるもの
223
試料をX線で照射し螢光X線を測定するもの
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
15
波動性または粒子性放射線の使用によって特徴づけられた測定装置
02
厚み測定用
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
20
放射線の回折の利用によるもの,例.結晶構造の調査のためのもの;放射線の反射の利用によるもの
出願人:
株式会社リガク RIGAKU CORPORATION [JP/JP]; 東京都昭島市松原町3丁目9番12号 3-9-12, Matsubara-cho, Akishima-shi, Tokyo 1968666, JP
発明者:
河野 浩 KONO, Hiroshi; JP
村上 智 MURAKAMI, Satoshi; JP
代理人:
特許業務法人はるか国際特許事務所 HARUKA PATENT & TRADEMARK ATTORNEYS; 東京都千代田区六番町3 六番町SKビル5階 Rokubancho SK Bldg. 5th Floor, 3, Rokubancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020085, JP
優先権情報:
2018-12215527.06.2018JP
発明の名称: (EN) TOTAL REFLECTION X-RAY FLUORESCENCE ANALYSIS DEVICE AND MEASURING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'ANALYSE PAR FLUORESCENCE DE RAYONS X À RÉFLEXION TOTALE ET PROCÉDÉ DE MESURE
(JA) 全反射蛍光X線分析装置及び測定方法
要約:
(EN) The present invention enables realizing, at low costs and in a simplified manner: a method for measuring the density and the thickness of a measurement sample; and a total reflection X-ray fluorescence analysis device for measuring the density and the thickness of a measurement sample. This total reflection X-ray fluorescence analysis device comprises: an X-ray source which emits a monochromatic primary X-ray while changing the incident angle with respect to the surface of a measurement sample in a range covering the total reflection critical angle of the measurement sample; a detector for measuring the intensity of a resultant fluorescent X-ray generated from the measurement sample; and a computation unit that acquires a differential curve by differentiating, with respect to the incident angle, the relation between the fluorescent X-ray intensity and the incident angle, that acquires the total reflection critical angle from the differential curve, and that, on the basis of the total reflection critical angle and the wavelength of the primary X-ray, computes the density and/or the thickness of the measurement sample.
(FR) La présente invention permet de réaliser, à faible coût et de manière simplifiée : un procédé de mesure de la densité et de l'épaisseur d'un échantillon de mesure ; et un dispositif d'analyse de fluorescence X à réflexion totale, pour mesurer la densité et l'épaisseur d'un échantillon de mesure. Ce dispositif d'analyse de fluorescence X à réflexion totale comprend : une source de rayons X, qui émet un rayon X primaire monochromatique tout en changeant l'angle d'incidence par rapport à la surface d'un échantillon de mesure dans une plage couvrant l'angle critique de réflexion totale de l'échantillon de mesure ; un détecteur, pour mesurer l'intensité d'un rayon X fluorescent résultant, généré à partir de l'échantillon de mesure ; et une unité de calcul, qui acquiert une courbe différentielle par différenciation, par rapport à l'angle d'incidence, de la relation entre l'intensité de rayons X fluorescents et l'angle d'incidence, qui acquiert l'angle critique de réflexion totale à partir de la courbe différentielle, et qui, en fonction de l'angle critique de réflexion totale et de la longueur d'onde du rayon X primaire, calcule la densité et/ou l'épaisseur de l'échantillon de mesure.
(JA) 測定試料の密度や膜厚の測定方法及び測定試料の密度や膜厚を測定する全反射蛍光X線分析装置を、低コストかつ簡便に実現できるようにする。 全反射蛍光X線分析装置であって、測定試料の全反射臨界角度を跨いで、前記測定試料の表面に対する入射角度を変えながら単色化した1次X線を照射するX線源と、前記測定試料から発生した蛍光X線の強度を測定する検出器と、前記蛍光X線の強度と前記入射角度との関係を、前記入射角度について微分することによって微分曲線を取得し、該微分曲線から前記全反射臨界角度を取得し、さらに、前記全反射臨界角度と前記1次X線の波長とに基づいて前記測定試料の密度及びまたは膜厚を算出する演算部と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)