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1. WO2019188882 - インプリント用硬化性組成物、離型剤、硬化物、パターン形成方法およびリソグラフィー方法

公開番号 WO/2019/188882
公開日 03.10.2019
国際出願番号 PCT/JP2019/012323
国際出願日 25.03.2019
IPC
C08F 2/46 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2重合方法
46波動エネルギーまたは粒子線の照射によって開始される重合
B29C 59/02 2006.01
B処理操作;運輸
29プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
Cプラスチックの成形または接合;他に分類されない可塑状態の材料の成形;成形品の後処理,例.補修
59表面成形,例.エンボス;そのための装置
02機械的手段,例.プレス,によるもの
C08F 22/10 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
22ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つがカルボキシル基によって停止されており,そして分子中に少なくとも1個の他のカルボキシル基を含有する化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体
10エステル
C08F 283/06 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
283サブクラスC08Gに分類される重合体への重合によって得られる高分子化合物
06ポリエーテル,ポリオキシメチレンまたはポリアセタールへの重合によるもの
C09K 3/00 2006.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3物質であって,他に分類されないもの
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
CPC
B29C 59/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
59Surface shaping ; of articles; , e.g. embossing; Apparatus therefor
02by mechanical means, e.g. pressing
C08F 2/46
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
2Processes of polymerisation
46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
C08F 22/10
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
22Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof
10Esters
C08F 283/06
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
283Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
06on to polyethers, polyoxymethylenes or polyacetals
C09K 3/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
H01L 21/027
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 後藤 雄一郎 GOTO Yuichiro
  • 袴田 旺弘 HAKAMATA Akihiro
  • 下重 直也 SHIMOJU Naoya
代理人
  • 特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.
優先権情報
2018-06091927.03.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTING, RELEASE AGENT, CURED OBJECT, PATTERN FORMATION METHOD, AND LITHOGRAPHY METHOD
(FR) COMPOSITION DURCISSABLE POUR EMPREINTE, AGENT DE DÉMOULAGE, ARTICLE DURCI, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE LITHOGRAPHIE
(JA) インプリント用硬化性組成物、離型剤、硬化物、パターン形成方法およびリソグラフィー方法
要約
(EN)
The present invention pertains to a curable composition for imprinting which contains a monofunctional polymerizable compound having a structure described below, a photoinitiator, and a releasing agent represented by Formula (I) or (II). The monofunctional polymerizable compound comprises a linear or branched alkyl group or an alicyclic, aromatic, or heteroaromatic ring substituted with a linear or branched alkyl group. The release agent is represented by the following formulas. Formula (I): A1-(B1)x1-(D1)y1-(E1)z1-F1 Formula (II): A2-(B2)x2-(D2)y2-(E2)z2-F2. A1 and A2 represent a linear aliphatic hydrocarbon group having 4 to 11 carbon atoms, D1 and D2 are an alkylene oxide structure, F1 is a polar functional group, and F2 is a hydrogen atom or a linear, branched, or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 4 to 11 carbon atoms. The present invention further pertains to a release agent, a cured object, a pattern formation method, and a lithography method related to the curable composition for imprinting.
(FR)
L'invention concerne une composition durcissable pour empreinte qui contient un composé polymérisable monofonctionnel possédant la structure mentionnée ci-dessous, et un agent de démoulage représenté par la formule (I) ou la formule (II). Le composé polymérisable monofonctionnel consiste soit en un groupe alkyle à chaîne droite ou ramifié, soit en un composé alicyclique, un cycle aromatique ou un hétérocycle aromatique substitué par un groupe alkyle à chaîne droite ou ramifié. L'agent de démoulage est représenté par la formule (I) A-(Bx1-(Dy1-(Ez1-F ou la formule (II) A-(Bx2-(Dy2-(Ez2-F , A etA représentent un groupe hydrocarbure aliphatique à chaîne droite de 4 à 11 atomes de carbone, D et D représentent une structure d'oxyde d'alkylène, F représente un groupe fonctionnel polaire, et F représente un atome d'hydrogène, ou un groupe hydrocarbure aliphatique à chaîne droite, ramifié ou cyclique de 4 à 11 atomes de carbone. L'invention concerne également un agent de démoulage, un article durci, un procédé de formation de motif, et un procédé de lithographie associés à cette composition durcissable pour empreinte.
(JA)
下記構造を有する単官能重合性化合物、光重合開始剤および下記式(I)または式(II)で表される離型剤を含む、インプリント用硬化性組成物; :単官能重合性化合物 直鎖または分岐のアルキル基、あるいは、直鎖または分岐のアルキル基が置換した、脂環、芳香族環または芳香族複素環 :離型剤 A-(Bx1-(Dy1-(Ez1-F :式(I) A-(Bx2-(Dy2-(Ez2-F :式(II) A、Aは炭素数4~11の直鎖の脂肪族炭化水素基を表し、D、Dはアルキレンオキシド構造であり、Fは極性官能基であり、Fは水素原子、炭素数4~11の直鎖、または分岐もしくは環状の脂肪族炭化水素基である。さらに、本発明は、このインプリント用硬化性組成物に関連する離型剤、硬化物、パターン形成方法およびリソグラフィー方法に関する。
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