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1. WO2019187981 - ガスバリアフィルム

公開番号 WO/2019/187981
公開日 03.10.2019
国際出願番号 PCT/JP2019/008100
国際出願日 01.03.2019
IPC
B32B 9/00 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9本質的にグループB32B11/00~B32B29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
C23C 16/42 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
22金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの
30化合物,混合物または固溶体の析出,例.ほう化物,炭化物,窒化物
42けい化物
CPC
B32B 9/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
9Layered products comprising a ; layer of a; particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
C23C 16/42
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
22characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
42Silicides
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 望月 佳彦 MOCHIZUKI Yoshihiko
  • 鈴木 信也 SUZUKI Shinya
代理人
  • 中島 順子 NAKASHIMA Junko
  • 米倉 潤造 YONEKURA Junzo
  • 村上 泰規 MURAKAMI Yasunori
優先権情報
2018-06180228.03.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) GAS BARRIER FILM
(FR) FILM FORMANT BARRIÈRE AUX GAZ
(JA) ガスバリアフィルム
要約
(EN)
The present invention addresses the issue of providing a gas barrier film having excellent bending properties. The gas barrier film has: a substrate; a base inorganic layer; a silicon nitride layer formed using the base inorganic layer as the base therefor; and a mixed layer formed at the interface between the base inorganic layer and the silicon nitride layer. The base inorganic layer comprises silicon oxide. The mixed layer contains a component derived from the base inorganic layer and a component derived from the silicon nitride layer. The thickness of the mixed layer is at least 3 nm.
(FR)
Le problème décrit par la présente invention est de fournir un film formant barrière aux gaz présentant d'excellentes propriétés de flexion. Le film formant barrière aux gaz comprend : un substrat ; une couche inorganique de base ; une couche de nitrure de silicium formée en utilisant comme base la couche inorganique de base ; et une couche mixte formée au niveau de l'interface entre la couche inorganique de base et la couche de nitrure de silicium. La couche inorganique de base comprend de l'oxyde de silicium. La couche mixte contient un composant dérivé de la couche inorganique de base et un composant dérivé de la couche de nitrure de silicium. L'épaisseur de la couche mixte est d'au moins 3 nm.
(JA)
屈曲性に優れたガスバリアフィルムの提供を課題とする。ガスバリアフィルムは、基板と、下地無機層と、下地無機層を下地として形成される窒化ケイ素層と、下地無機層と窒化ケイ素層との界面に形成される混合層と、を有し、下地無機層は、酸化ケイ素からなり、混合層は、下地無機層に由来する成分と、窒化ケイ素層に由来する成分を含有し、混合層の厚みは3nm以上である。
他の公開
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