このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2019066014) 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、および研磨方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/066014 国際出願番号: PCT/JP2018/036406
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 28.09.2018
IPC:
C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,C09G 1/02 (2006.01)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3
物質であって,他に分類されないもの
14
抗スリップ物質;研摩物質
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
G
フレンチポリッシュ以外のつや出し組成物;スキーワックス
1
つや出し組成物
02
研摩剤または粉砕剤を含むもの
出願人:
株式会社フジミインコーポレーテッド FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目1番地1 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502, JP
発明者:
天▲高▼ 恭祐 TENKO Kyosuke; JP
鎌田 透 KAMADA Toru; JP
菱田 翔太 HISHIDA Shota; JP
代理人:
田中 秀▲てつ▼ TANAKA Hidetetsu; JP
山田 勇毅 YAMADA Yuki; JP
森 哲也 MORI Tetsuya; JP
優先権情報:
2017-19134829.09.2017JP
2018-04888816.03.2018JP
発明の名称: (EN) POLISHING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POLISHING COMPOSITION, AND POLISHING METHOD
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UNE COMPOSITION DE POLISSAGE, ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
(JA) 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、および研磨方法
要約:
(EN) Provided is a polishing composition which exhibits excellent polishing performance with respect to the surfaces of materials such as alloys, resins, metals, semimetals, and oxides of metals or semimetals, and which is reduced in scattering of the polishing composition during polishing. A polishing composition according to one embodiment of the present invention contains abrasive grains, a first liquid that has hydrophobicity, a surfactant, a layered silicate compound, a thickening agent and a second liquid that has hydrophilicity.
(FR) La présente invention concerne une composition de polissage qui fait preuve d’une excellente performance de polissage vis-à-vis des surfaces de matériaux tels que les alliages, les résines, les métaux, les semi-métaux, et les oxydes de métaux ou semi-métaux, et qui présente une diffusion réduite de la composition de polissage durant le polissage. Une composition de polissage selon un mode de réalisation de la présente invention contient des grains abrasifs, un premier liquide qui présente une hydrophobie, un tensioactif, un composé de silicate stratifié, un agent épaississant et un second liquide qui présente une hydrophilie.
(JA) 合金または樹脂、さらには金属や半金属、その酸化物等の材料の表面に対し優れた研磨性能を有しつつ、研磨時における研磨用組成物の飛散を低減させた研磨用組成物の提供。本実施形態に係る研磨用組成物は、砥粒と、疎水性を有する第1の液体と、界面活性剤と、層状ケイ酸塩化合物と、増粘剤と、親水性を有する第2の液体とを含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)