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1. (WO2019066000) リソグラフィー用組成物、パターン形成方法、及び化合物
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国際公開番号: WO/2019/066000 国際出願番号: PCT/JP2018/036344
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 28.09.2018
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,C07F 11/00 (2006.01) ,G03F 7/029 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
11
周期律表の第6族の元素を含有する化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
029
無機化合物;オニウム化合物;酸素,窒素又は硫黄以外の異種原子をもつ有機化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
学校法人関西大学 THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY [JP/JP]; 大阪府吹田市山手町3丁目3番35号 3-3-35, Yamate-cho, Suita-shi, Osaka 5648680, JP
三菱瓦斯化学株式会社 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目5番2号 5-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008324, JP
発明者:
工藤 宏人 KUDO, Hiroto; JP
越後 雅敏 ECHIGO, Masatoshi; JP
佐藤 隆 SATO, Takashi; JP
代理人:
稲葉 良幸 INABA, Yoshiyuki; JP
大貫 敏史 ONUKI, Toshifumi; JP
内藤 和彦 NAITO, Kazuhiko; JP
優先権情報:
2017-18934029.09.2017JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY, PATTERN FORMATION METHOD AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION POUR LITHOGRAPHIE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET COMPOSÉ
(JA) リソグラフィー用組成物、パターン形成方法、及び化合物
要約:
(EN) A composition for lithography which comprises a compound represented by formula (1). [LxTe(OR1)y] (1) [wherein: L represents a ligand other than OR1; R1 represents a hydrogen atom, an optionally substituted linear alkyl group having 1-20 carbon atoms, an optionally substituted branched or cyclic alkyl group having 3-20 carbon atoms, an optionally substituted aryl group having 6-20 carbon atoms, or an optionally substituted alkenyl group having 2-20 carbon atoms; x is an integer of 0-6; and y is an integer of 0-6, provided that x+y is 1-6, and when x is 2 or more, L's may be the same or different, and when y is 2 or more, R1's may be the same or different].
(FR) L'invention concerne une composition pour lithographie qui comprend un composé représenté par la formule (1). [LxTe(OR1)y] (1) [dans la formule : L représente un ligand autre que OR1 ; R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle linéaire éventuellement substitué ayant de 1 à 20 atomes de carbone, un groupe alkyle ramifié ou cyclique éventuellement substitué ayant de 3 à 20 atomes de carbone, un groupe aryle éventuellement substitué ayant de 6 à 20 atomes de carbone, ou un groupe alcényle éventuellement substitué ayant de 2 à 20 atomes de carbone ; x est un nombre entier compris entre 0 et 6 ; et y est un nombre entier compris entre 0 et 6, à condition que x + y soit compris entre 1 et 6, et que lorsque x est supérieur ou égal à 2, L puisse être identique ou différent, et que lorsque y est supérieur ou égal à 2, R1 puisse être identique ou différent].
(JA) 下記式(1)で表わされる化合物を含有するリソグラフィー用組成物。 [LTe(OR] (1) (上記式(1)中、Lは、OR以外の配位子であり、Rは、水素原子、置換又は無置換の炭素数1~20の直鎖状又は炭素数3~20の分岐状若しくは環状のアルキル基、置換又は無置換の炭素数6~20のアリール基、及び置換又は無置換の炭素数2~20のアルケニル基のいずれかであり、xは、0~6の整数であり、yは、0~6の整数であり、xとyの合計は、1~6であり、xが2以上である場合、複数のLは同一でも異なっていてもよく、yが2以上である場合、複数のRは同一でも異なっていてもよい。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)