このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2019065847) 圧電基板の製造装置及び圧電基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/065847 国際出願番号: PCT/JP2018/035951
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 27.09.2018
IPC:
H03H 3/02 (2006.01)
H 電気
03
基本電子回路
H
インビーダンス回路網,例.共振回路;共振器
3
インピーダンス回路網,共振回路,共振器の製造に特有な装置または工程
007
電気機械的共振器または回路網の製造のためのもの
02
圧電または電わい共振器または回路網の製造のためのもの
出願人:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
発明者:
崔 弘毅 SAI, Koki; JP
代理人:
稲葉 良幸 INABA, Yoshiyuki; JP
大貫 敏史 ONUKI, Toshifumi; JP
優先権情報:
2017-19059929.09.2017JP
発明の名称: (EN) DEVICE FOR MANUFACTURING PIEZOELECTRIC SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PIEZOELECTRIC SUBSTRATE
(FR) DISPOSITIF DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT PIÉZOÉLECTRIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT PIÉZOÉLECTRIQUE
(JA) 圧電基板の製造装置及び圧電基板の製造方法
要約:
(EN) The present invention comprises: a first electrode (10); a second electrode (20) opposing the first electrode (10) across a piezoelectric substrate; a cover (50) surrounding the second electrode (20) so that the tip end is exposed; a supply part (40) that supplies treatment gas to an internal space (51) of the cover (50); a machining part (65) that applies a voltage across the first electrode (10) and the second electrode (20), and converts the treatment gas to plasma to perform surface treatment on the piezoelectric substrate; a detector (80) provided on the outside of the cover (50), the relative position of the detector (80) with respect to the second electrode (20) being fixed; a measuring part (63) that measures the thickness of the piezoelectric substrate using the detector (80); a drive part (30) that changes the relative positions of the first electrode (10) and the second electrode (20); and a control unit (61) that controls the supply part (40), the machining part (65), the measuring part (63), and the drive part (30).
(FR) La présente invention comprend : une première électrode (10) ; une seconde électrode (20) opposée à la première électrode (10) à travers un substrat piézoélectrique ; une protection (50) entourant la seconde électrode (20) de telle sorte que l'extrémité de pointe soit exposée ; une partie d'alimentation (40) qui fournit un gaz de traitement à un espace interne (51) de la protection (50) ; une partie d'usinage (65) qui applique une tension à travers la première électrode (10) et la seconde électrode (20), et convertit le gaz de traitement en plasma pour effectuer un traitement de surface sur le substrat piézoélectrique ; un détecteur (80) disposé à l'extérieur de la protection (50), la position relative du détecteur (80) par rapport à la seconde électrode (20) étant fixe ; une partie de mesure (63) qui mesure l'épaisseur du substrat piézoélectrique à l'aide du détecteur (80) ; une partie d'entraînement (30) qui change les positions relatives de la première électrode (10) et de la seconde électrode (20) ; et une unité de commande (61) qui commande la partie d'alimentation (40), la partie d'usinage (65), la partie de mesure (63) et la partie d'entraînement (30).
(JA) 第1電極(10)と、圧電基板を挟んで第1電極(10)と対向する第2電極(20)と、第2電極(20)を先端が露出するように囲むカバー(50)と、カバー(50)の内部空間(51)に処理ガスを供給する供給部(40)と、第1電極(10)と第2電極(20)との間に電圧を印加し、処理ガスをプラズマ化させて圧電基板に表面処理を行う加工部(65)と、カバー(50)の外側に設けられ、第2電極(20)との相対位置が固定された検出器(80)と、検出器(80によって圧電基板の厚さを測定する測定部(63)と、第1電極(10)と第2電極(20)との相対位置を変化させる駆動部(30)と、供給部(40)、加工部(65)、測定部(63)、および駆動部(30)を制御する制御部(61)と、を備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)