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1. (WO2019065686) フォトスペーサ形成用感光性樹脂組成物、フォトスペーサの形成方法、フォトスペーサ付基板、及び、カラーフィルタ
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国際公開番号: WO/2019/065686 国際出願番号: PCT/JP2018/035579
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 26.09.2018
IPC:
G02B 5/20 (2006.01) ,G02F 1/1339 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1339
ガスケット;スペーサ;セルの封止
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
出願人:
大阪有機化学工業株式会社 OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区安土町1丁目7番20号 1-7-20, Azuchi-machi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410052, JP
発明者:
杉山 大 SUGIYAMA, Dai; JP
椿 幸樹 TSUBAKI, Koki; JP
百本 恵 HYAKUMOTO, Megumi; JP
中野 順弘 NAKANO, Nobuhiro; JP
代理人:
稲葉 良幸 INABA, Yoshiyuki; JP
大貫 敏史 ONUKI, Toshifumi; JP
優先権情報:
2017-18497326.09.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING PHOTOSPACER, METHOD FOR FORMING PHOTOSPACER, SUBSTRATE EQUIPPED WITH PHOTOSPACER, AND COLOUR FILTER
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR FORMER UN PHOTO-ESPACEUR, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN PHOTO-ESPACEUR, SUBSTRAT ÉQUIPÉ D'UN PHOTO-ESPACEUR, ET FILTRE COLORÉ
(JA) フォトスペーサ形成用感光性樹脂組成物、フォトスペーサの形成方法、フォトスペーサ付基板、及び、カラーフィルタ
要約:
(EN) This photosensitive resin composition for forming a photospacer includes an alkali-soluble resin, and an oligomer having a weight average molecular weight of 1000 or higher. The mass ratio (O/P ratio) of the oligomer (O) to the alkali-soluble resin (P) is 0.4-1.0.
(FR) Cette composition de résine photosensible pour former un photo-espaceur comprend une résine soluble dans les alcalis, et un oligomère ayant un poids moléculaire moyen en poids de 1000 ou plus. Le rapport massique (rapport O/P) de l'oligomère (O) à la résine soluble dans les alcalis (P) est de 0,4-1,0.
(JA) アルカリ可溶性樹脂と、重量平均分子量が1000以上のオリゴマーと、を含み、前記アルカリ可溶性樹脂〔P〕と前記オリゴマー〔O〕との質量比〔O/P比〕が、0.4~1.0であるフォトスペーサ形成用感光性樹脂組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)