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1. (WO2019065669) 弾性波装置及び弾性波装置の製造方法
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国際公開番号: WO/2019/065669 国際出願番号: PCT/JP2018/035555
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 26.09.2018
IPC:
H03H 9/25 (2006.01) ,H03H 3/08 (2006.01) ,H03H 9/64 (2006.01)
H 電気
03
基本電子回路
H
インビーダンス回路網,例.共振回路;共振器
9
電気機械的または電気音響的素子を含む回路網;電気機械的共振器
25
弾性表面波を使用する共振器の構造上の特徴
H 電気
03
基本電子回路
H
インビーダンス回路網,例.共振回路;共振器
3
インピーダンス回路網,共振回路,共振器の製造に特有な装置または工程
007
電気機械的共振器または回路網の製造のためのもの
08
弾性表面波を用いる共振器または回路網の製造のためのもの
H 電気
03
基本電子回路
H
インビーダンス回路網,例.共振回路;共振器
9
電気機械的または電気音響的素子を含む回路網;電気機械的共振器
46
濾波器
64
弾性表面波を用いるもの
出願人:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
発明者:
大村 正志 OMURA, Masashi; --
代理人:
特許業務法人北斗特許事務所 HOKUTO PATENT ATTORNEYS OFFICE; 大阪府大阪市北区梅田一丁目12‐17梅田スクエアビル Umeda Square Bldg., 12-17, Umeda 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300001, JP
優先権情報:
2017-18673627.09.2017JP
発明の名称: (EN) ELASTIC WAVE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELASTIC WAVE DEVICE
(FR) DISPOSITIF À ONDES ÉLASTIQUES ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 弾性波装置及び弾性波装置の製造方法
要約:
(EN) In the present invention, a reduction in size is achieved while characteristics degradation is suppressed. An elastic wave device (1) has a first acoustic impedance layer (31) and second acoustic impedance layers (32, 33), an IDT electrode (5), and electrodes (61, 62). At least a portion of the IDT electrode (5) overlaps the first acoustic impedance layer (31). At least a portion of the electrodes (61, 62) overlaps the second acoustic impedance layers (32, 33). In each of the first acoustic impedance layer (31) and the second acoustic impedance layers (32, 33), a high-acoustic-impedance layer or a low-acoustic-impedance layer is an electrically conductive layer. Capacitors (71, 72) are formed by the electrodes (61, 62) and the electrically conductive layers of the second acoustic impedance layers (32, 33). The electrically conductive layer of the first acoustic impedance layer (31) is electrically insulated from the electrically conductive layers of the second acoustic impedance layers (32, 33).
(FR) Dans la présente invention, la taille du dispositif peut être réduite sans dégradation de ses caractéristiques. Le dispositif à ondes élastiques (1) comprend une première couche d'impédance acoustique (31) et des secondes couches d'impédance acoustique (32, 33), une électrode IDT (5) et des électrodes (61, 62). Au moins une partie de l'électrode IDT (5) chevauche la première couche d'impédance acoustique (31). Au moins une partie des électrodes (61, 62) chevauche les secondes couches d'impédance acoustique (32, 33). Dans chacune des première couche d'impédance acoustique (31) et secondes couches d'impédance acoustique (32, 33), une couche à forte impédance acoustique ou une couche à faible impédance acoustique est une couche électriquement conductrice. Des condensateurs (71, 72) sont formés par les électrodes (61, 62) et les couches électriquement conductrices des secondes couches d'impédance acoustique (32, 33). La couche électriquement conductrice de la première couche d'impédance acoustique (31) est isolée électriquement des couches électriquement conductrices des secondes couches d'impédance acoustique (32, 33).
(JA) 特性劣化を抑制しつつ小型化を図る。弾性波装置(1)は、第1音響インピーダンス層(31)及び第2音響インピーダンス層(32,33)と、IDT電極(5)と、電極(61,62)とを有する。IDT電極(5)の少なくとも一部は、第1音響インピーダンス層(31)と重複する。電極(61,62)の少なくとも一部は、第2音響インピーダンス層(32,33)と重複する。第1音響インピーダンス層(31)及び第2音響インピーダンス層(32,33)の各々において、高音響インピーダンス層又は低音響インピーダンス層が導電層である。第2音響インピーダンス層(32,33)の導電層と電極(61,62)とによって、キャパシタ(71,72)が形成されている。第1音響インピーダンス層(31)のおける導電層は、第2音響インピーダンス層(32,33)における導電層と電気的に絶縁している。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)