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1. (WO2019065502) レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
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国際公開番号: WO/2019/065502 国際出願番号: PCT/JP2018/035070
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 21.09.2018
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
東京応化工業株式会社 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012, JP
発明者:
長峰 高志 NAGAMINE Takashi; JP
海保 貴昭 KAIHO Takaaki; JP
中村 剛 NAKAMURA Tsuyoshi; KR
代理人:
棚井 澄雄 TANAI Sumio; JP
松本 将尚 MATSUMOTO Masanao; JP
宮本 龍 MIYAMOTO Ryu; JP
飯田 雅人 IIDA Masato; JP
優先権情報:
2017-18904228.09.2017JP
発明の名称: (EN) RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS DE RÉSERVE
(JA) レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
要約:
(EN) A resist composition containing a base component (A) of which the solubility in a developing solution can be altered by the action of an acid, and also containing a compound (B1) represented by general formula (b1) is employed. In the formula, Rb1 represents a monovalent hydrocarbon group having a steroid backbone and having 17 to 50 carbon atoms. Provided that the hydrocarbon group may contain a hetero atom. Yb1 represents a bivalent linking group containing at least one functional group selected from the group consisting of a carboxylic acid ester group, an ether group, a carbonic acid ester group, a carbonyl group and an amide group, or a single bond. Vb1 represents an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a single bond. One of Rf1 and Rf2 represents a hydrogen atom, and the other represents a fluorine atom. m represents an integer of 1 or more, and Mm+ represents a m-valent organic cation.
(FR) La présente invention concerne une composition de réserve contenant un constituant de base (A) dont la solubilité dans une solution de développement peut être modifiée par l'action d'un acide, et contenant également un composé (B1) représenté par la formule générale (b1). Dans la formule, Rb1 représente un groupe hydrocarboné monovalent ayant un squelette stéroïde et de 17 à 50 atomes de carbone, à condition que le groupe hydrocarboné puisse contenir un hétéroatome. Yb1 représente un groupe de liaison bivalent contenant au moins un groupe fonctionnel choisi dans le groupe constitué par un groupe ester d'acide carboxylique, un groupe éther, un groupe ester d'acide carbonique, un groupe carbonyle et un groupe amide, ou une liaison simple. Vb1 représente un groupe alkylène, un groupe alkylène fluoré ou une liaison simple. Rf1 ou Rf2 représente un atome d'hydrogène, l'autre représentant un atome de fluor. m représente un nombre entier supérieur ou égal à 1, et Mm+ représente un cation organique de valence m.
(JA) 酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、一般式(b1)で表される化合物(B1)と、を含有するレジスト組成物を採用する。式中、Rb1は、ステロイド骨格を有する炭素数17~50の一価の炭化水素基を表す。但し、前記炭化水素基は、ヘテロ原子を含んでもよい。Yb1は、カルボン酸エステル基、エーテル基、炭酸エステル基、カルボニル基及びアミド基からなる群より選択される少なくとも1種の官能基を含む2価の連結基、又は単結合を表す。Vb1は、アルキレン基、フッ素化アルキレン基又は単結合を表す。Rf1及びRf2は、一方が水素原子であり、他方がフッ素原子である。mは1以上の整数であって、Mm+は、m価の有機カチオンを表す。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)