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1. (WO2019065476) 着色感光性組成物および光学フィルタの製造方法
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国際公開番号: WO/2019/065476 国際出願番号: PCT/JP2018/034940
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 21.09.2018
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 2/46 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/029 (2006.01) ,G03F 7/031 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
44
配合成分,例.可塑剤,染料,充填剤,の存在下における重合
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
46
波動エネルギーまたは粒子線の照射によって開始される重合
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
029
無機化合物;オニウム化合物;酸素,窒素又は硫黄以外の異種原子をもつ有機化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031
グループ7/029に包含されない有機化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
大河原 昂広 OKAWARA Takahiro; JP
奈良 裕樹 NARA Yuki; JP
代理人:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
優先権情報:
2017-18963229.09.2017JP
発明の名称: (EN) COLORED PHOTOSENSITIVE COMPOUND AND PRODUCTION METHOD FOR OPTICAL FILTER
(FR) COMPOSÉ PHOTOSENSIBLE COLORÉ ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR FILTRE OPTIQUE
(JA) 着色感光性組成物および光学フィルタの製造方法
要約:
(EN) Provided is a photosensitive colored composition capable of forming pixels having good rectangularity and excellent adhesion to a support. Also, provided is a production method for an optical filter which has pixels having good rectangularity and excellent adhesion to a support. This colored photosensitive compound contains a colorant and a curable compound, and is for exposure with light having a wavelength of 300 nm or less. When the colored photosensitive compound is used to form a film having a thickness of 0.5 μm after being dried, the film has an optical density of 1.6 or more with respect to light having a wavelength of 248 nm. The contained amount of the colorant is 50 mass% or more with respect to the total solid content of the colored photosensitive compound.
(FR) L'invention concerne une composition photosensible colorée ayant la capacité de former des pixels qui présentent une bonne rectangularité et une excellente adhérence à un support. L'invention concerne également un procédé de production d'un filtre optique qui possède des pixels ayant une bonne rectangularité et une excellente adhérence à un support. Ce composé photosensible coloré contient un colorant et un composé durcissable, et il est destiné à être exposé à une lumière ayant une longueur d'onde de 300 nm ou moins. Lorsque le composé photosensible coloré est utilisé pour former un film ayant une épaisseur de 0,5 µm après avoir été séché, le film a une densité optique de 1,6 ou plus par rapport à la lumière ayant une longueur d'onde de 248 nm. La quantité de colorant contenue est de 50 % en masse ou plus par rapport à la teneur totale en solides du composé photosensible coloré.
(JA) 支持体との密着性に優れ、矩形性の良い画素を形成できる感光性着色組成物を提供する。また、支持体との密着性に優れ、矩形性の良い画素を有する光学フィルタの製造方法を提供する。この着色感光性組成物は、色材と硬化性化合物とを含む波長300nm以下の光での露光用の着色感光性組成物である。この着色感光性組成物を用いて乾燥後の膜厚が0.5μmの膜を製膜した際に、前述の膜の波長248nmの光に対する光学濃度が1.6以上である。着色感光性組成物の全固形分中における色材の含有量は50質量%以上であることが好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)