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1. (WO2019065357) 研磨用組成物
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国際公開番号: WO/2019/065357 国際出願番号: PCT/JP2018/034401
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 18.09.2018
IPC:
C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3
物質であって,他に分類されないもの
14
抗スリップ物質;研摩物質
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人:
株式会社フジミインコーポレーテッド FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目1番地1 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502, JP
発明者:
谷口 恵 TANIGUCHI, Megumi; JP
向井 貴俊 MUKAI, Takatoshi; JP
土屋 公亮 TSUCHIYA, Kohsuke; JP
代理人:
安部 誠 ABE, Makoto; JP
優先権情報:
2017-19117529.09.2017JP
発明の名称: (EN) POLISHING COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE POLISSAGE
(JA) 研磨用組成物
要約:
(EN) Provided is a polishing composition having excellent capability for removing protrusions at the hard laser mark periphery. This polishing composition contains abrasive grains, a basic compound, and water. The basic compound includes a combination of two or more types of quaternary ammonium compounds. The two or more types of quaternary ammonium compounds include tetramethyl ammonium hydroxide and one or more types selected from compounds represented by general formula (1). (In the formula, X- is a monovalent anion and R1, R2, R3, and R4 are each independently selected from the group consisting of C1-4 hydrocarbon groups. However, at least one of R1, R2, R3 and R4 is a C2-4 hydrocarbon group.)
(FR) L'invention concerne une composition de polissage ayant une excellente aptitude à éliminer des protubérances à la périphérie de marques laser dures. La composition de polissage contient des particules abrasives, un composé basique et de l'eau. Le composé basique comprend une combinaison d'au moins deux types de composés d'ammonium quaternaire. Les au moins deux types de composés d'ammonium quaternaire comprennent de l'hydroxyde de tétraméthyle ammonium et un ou plusieurs types choisis parmi des composés représentés par la formule générale (1). Dans la formule, X- est un anion monovalent et R1, R2, R3 et R4 sont tous choisis indépendamment dans le groupe composé de groupes C1-4-hydrocarbure. Cependant, R1, R2, R3 et/ou R4 est un groupe C2-4-hydrocarbure.
(JA) ハードレーザーマーク周縁の隆起を解消する性能に優れた研磨用組成物を提供する。本発明により提供される研磨用組成物は、砥粒と塩基性化合物と水とを含む。上記塩基性化合物は、2種以上の第四級アンモニウム化合物を組み合わせて含む。上記2種以上の第四級アンモニウム化合物は、水酸化テトラメチルアンモニウムと、以下の一般式(1)で表される化合物から選択される1種以上とを含む。 (式中のXは一価のアニオンであり、R,R,R,Rは、それぞれ独立に、炭素原子数1~4の炭化水素基からなる群から選択される。ただし、R,R,R,Rのうち少なくとも一つは炭素原子数2~4の炭化水素基である。)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)