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1. (WO2019065351) 感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子、硬化膜を具備する有機EL表示装置、硬化膜の製造方法、および有機EL表示装置の製造方法
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国際公開番号: WO/2019/065351 国際出願番号: PCT/JP2018/034377
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 18.09.2018
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,C08G 73/10 (2006.01) ,C08G 73/22 (2006.01) ,G03F 7/023 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G09F 9/30 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/12 (2006.01) ,H05B 33/22 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
73
グループ12/00~71/00に属さない,高分子の主鎖に酸素または炭素を有しまたは有せずに窒素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
06
高分子の主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合物;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
10
ポリイミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
73
グループ12/00~71/00に属さない,高分子の主鎖に酸素または炭素を有しまたは有せずに窒素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
06
高分子の主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合物;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
22
ポリベンズオキサゾール
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
022
キノンジアジド
023
高分子キノンジアジド;高分子添加剤,例.結合剤
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
30
必要な文字が個々の要素を組み合わせることによって形成されるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
28
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる構成部品を含むもの
32
光放出に特に適用される構成部品を有するもの,例.有機発光ダイオードを使用したフラットパネル・ディスプレイ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
22
補助的な誘電体または反射層の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの
出願人:
東レ株式会社 TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 東京都中央区日本橋室町2丁目1番1号 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666, JP
発明者:
亀本聡 KAMEMOTO, Satoshi; JP
首藤勇太 SHUTO, Yuta; JP
三好一登 MIYOSHI, Kazuto; JP
優先権情報:
2017-18450226.09.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT COMPRISING CURED FILM, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE COMPRISING CURED FILM, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI, ÉLÉMENT COMPRENANT UN FILM DURCI, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE COMPRENANT UN FILM DURCI, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DURCI, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子、硬化膜を具備する有機EL表示装置、硬化膜の製造方法、および有機EL表示装置の製造方法
要約:
(EN) A photosensitive resin composition containing an alkali-soluble resin (A), a photo-acid generator (B), a heat crosslinking agent (C), a phenol-based antioxidant (D), and a compound (E2) having a phenol-based hydroxyl group of which the acid dissociation constant pKa at 25°C is no less than 6.0 and no more than 9.5; or a photosensitive resin composition containing an alkali-soluble resin (A), a photo-acid generator (B), a heat crosslinking agent (C), a phenol-based antioxidant (D), and a compound (E) having a phenol-based hydroxyl group other than (D); wherein the compound (E) having a phenol-based hydroxyl group other than (D) includes a compound (E1) having a phenol-based hydroxyl group and an electron withdrawing group in a molecule. Provided is a photosensitive resin composition that has exceptional chemical resistance while the cured film has high bending resistance even after a reliability test.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible contenant une résine soluble dans les alcalis (A), un générateur de photo-acide (B), un agent de réticulation thermique (C), un antioxydant à base de phénol (D), et un composé (E2) ayant un groupe hydroxyle à base de phénol dont le pKa constant de dissociation acide à 25 °C est supérieur ou égal à 6,0 et inférieur ou égal à 9,5 ; ou une composition de résine photosensible contenant une résine soluble dans les alcalis (A), un générateur de photo-acide (B), un agent de réticulation thermique (C), un antioxydant à base de phénol (D), et un composé (E) ayant un groupe hydroxyle à base de phénol autre que (D), le composé (E) ayant un groupe hydroxyle à base de phénol autre que (D) comprenant un composé (E1) ayant un groupe hydroxyle à base de phénol et un groupe attracteur d'électrons dans une molécule. L'invention permet d'obtenir une composition de résine photosensible qui présente une résistance chimique exceptionnelle et un film durci qui présente une résistance à la flexion élevée même après un essai de fiabilité.
(JA) アルカリ可溶性樹脂(A)、光酸発生剤(B)、熱架橋剤(C)、フェノール系酸化防止剤(D)、25℃における酸解離定数pKaが6.0以上9.5以下のフェノール系水酸基を有する化合物(E)を含有する感光性樹脂組成物、またはアルカリ可溶性樹脂(A)、光酸発生剤(B)、熱架橋剤(C)、フェノール系酸化防止剤(D)、(D)以外のフェノール系水酸基を有する化合物(E)を含有する感光性樹脂組成物であって、前記(D)以外のフェノール系水酸基を有する化合物(E)が、分子内に電子吸引性基およびフェノール系水酸基を有する化合物(E)を含有する感光性樹脂組成物。 硬化膜が信頼性試験後も高い折り曲げ耐性を有しながら、耐薬品性にも優れた感光性樹脂組成物を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)