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1. (WO2019065233) 静電チャック装置
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国際公開番号: WO/2019/065233 国際出願番号: PCT/JP2018/033773
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 12.09.2018
IPC:
H01L 21/683 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683
支持または把持のためのもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065
プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
出願人:
住友大阪セメント株式会社 SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区六番町6番地28 6-28, Rokuban-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1028465, JP
発明者:
小坂井 守 KOSAKAI Mamoru; JP
尾崎 雅樹 OZAKI Masaki; JP
前田 佳祐 MAEDA Keisuke; JP
代理人:
西澤 和純 NISHIZAWA Kazuyoshi; JP
佐藤 彰雄 SATO Akio; JP
萩原 綾夏 HAGIWARA Ayaka; JP
優先権情報:
2017-18972029.09.2017JP
発明の名称: (EN) ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 静電チャック装置
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to reduce non-uniformity of etching in the plane of a wafer. This electrostatic chuck device is provided with: an electrostatic chuck unit which includes a sample mounting surface for mounting a sample and a first electrode for electrostatic suction; a cooling base unit which is mounted on the opposite side from the sample mounting surface with respect to the electrostatic chuck unit and which cools the electrostatic chuck unit; and an adhesive layer for adhering the electrostatic chuck unit and the cooling base unit to each other. The cooling base unit has the function of a second electrode which is an RF electrode. An RF electrode or a third electrode for LC adjustment is provided between the electrostatic chuck unit and the cooling base unit. The third electrode is adhered to the electrostatic chuck unit and the cooling base unit, and is insulated from the cooling base unit.
(FR) Le but de la présente invention est de réduire la non-uniformité de gravure dans le plan d'une tranche. Ce dispositif de mandrin électrostatique comprend : une unité de mandrin électrostatique qui comprend une surface de montage d'échantillon pour monter un échantillon et une première électrode pour une aspiration électrostatique ; une unité de base de refroidissement qui est montée sur le côté opposé à la surface de montage d'échantillon par rapport à l'unité de mandrin électrostatique et qui refroidit l'unité de mandrin électrostatique ; et une couche adhésive pour faire adhérer l'unité de mandrin électrostatique et l'unité de base de refroidissement l'une à l'autre. L'unité de base de refroidissement a la fonction d'une seconde électrode qui est une électrode RF. Une électrode RF ou une troisième électrode pour ajustement LC est disposée entre l'unité de mandrin électrostatique et l'unité de base de refroidissement. La troisième électrode est collée à l'unité de mandrin électrostatique et à l'unité de base de refroidissement, et est isolée de l'unité de base de refroidissement.
(JA) ウエハの面内のエッチングが不均一になってしまうことを軽減すること。静電チャック装置は、試料を載置する試料載置面を有するとともに静電吸着用の第1の電極を有する静電チャック部と、静電チャック部に対し試料載置面とは反対側に載置され静電チャック部を冷却する冷却ベース部と、静電チャック部と冷却ベース部とを接着する接着層と、を備え、冷却ベース部は、RF電極である第2の電極の機能を有しており、静電チャック部と冷却ベース部との間に、RF電極もしくはLC調整用の第3の電極を有しており、第3の電極は、静電チャック部及び冷却ベース部と接着され、冷却ベース部とは絶縁されている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)