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1. (WO2019065224) パターン描画装置
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国際公開番号: WO/2019/065224 国際出願番号: PCT/JP2018/033703
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 11.09.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 26/12 (2006.01) ,G02F 1/33 (2006.01) ,G02F 1/37 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
26
可動または変形可能な光学要素を用いて,光の強度,色,位相,偏光または方向を制御,例.スイッチング,ゲーティング,変調する光学装置または光学的配置
08
光の方向を制御するためのもの
10
走査系
12
多面体鏡を用いるもの
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
29
光ビームの位置または方向の制御のためのもの,すなわち偏向
33
音響光学的偏向装置
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
35
非線型光学
37
二次高調波発振のためのもの
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
加藤正紀 KATO Masaki; JP
中山修一 NAKAYAMA Shuichi; JP
鬼頭義昭 KITO Yoshiaki; JP
鈴木智也 SUZUKI Tomonari; JP
堀正和 HORI Masakazu; JP
林田洋祐 HAYASHIDA Yosuke; JP
代理人:
千葉剛宏 CHIBA Yoshihiro; JP
宮寺利幸 MIYADERA Toshiyuki; JP
千馬隆之 SENBA Takayuki; JP
仲宗根康晴 NAKASONE Yasuharu; JP
坂井志郎 SAKAI Shiro; JP
関口亨祐 SEKIGUCHI Kosuke; JP
優先権情報:
2017-18435726.09.2017JP
2017-18436026.09.2017JP
2017-18436326.09.2017JP
発明の名称: (EN) PATTERN-DRAWING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAÇAGE DE MOTIF
(JA) パターン描画装置
要約:
(EN) A pattern-drawing device (EX) is provided with a drawing unit (Un) for scanning a spot light (SP) of a drawing beam (LBn) in the main scan direction and drawing a pattern, and a movement mechanism for moving a substrate (P) and the drawing unit (Un) in the sub-scan direction relative to each other. The pattern-drawing device (EX) alternatively switches, using an optical element (OSn) for selection, between a first state for causing a beam (LB) from a light source device (LS) to be deflected at a prescribed deflection angle by a change of optical characteristics due to an electric signal and causing the deflected beam to enter the drawing unit (Un) as the drawing beam (LBn) and a second state for not causing the deflected beam to enter the drawing unit (Un), and, in order to cause the spot light (SP) projected from the drawing unit (Un) to be shifted in the sub-scan direction by a prescribed amount when in the first state, controls the electric signal so that the deflection angle by the optical element (OSn) for selection changes, and corrects a change of intensity of the spot light (SP) which occurs due to a change of the deflection angle by the optical element (OSn) for selection, in accordance with the optical characteristics of the optical element (OSn) for selection.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de traçage de motif (EX) pourvu d'une unité de traçage (un) permettant de balayer une lumière dirigée (SP) d'un faisceau de traçage (LBn) dans la direction de balayage principal et de tracer un motif, et d'un mécanisme de déplacement permettant de déplacer un substrat (P) et l'unité de traçage (Un) dans la direction de sous-balayage l'un par rapport à l'autre. Le dispositif de traçage de motif (EX) passe alternativement, à l'aide d'un élément optique (OSn) de sélection, d'un premier état permettant d'amener un faisceau (LB) d'un dispositif de source de lumière (LS) à dévier selon un angle de déviation prescrit par un changement de caractéristiques optiques provoqué par un signal électrique et d'amener le faisceau dévié à entrer dans l'unité de traçage (Un) en tant que faisceau de traçage (LBn), à un second état permettant de ne pas amener le faisceau dévié à entrer dans l'unité de traçage (Un). Afin d'amener la lumière dirigée (SP) projetée depuis l'unité de traçage (Un) à dévier dans la direction de sous-balayage d'une quantité prescrite lorsqu'elle est dans le premier état, le dispositif de traçage de motif (EX) commande le signal électrique de sorte que l'angle de déviation par l'élément optique (OSn) de sélection change, et corrige un changement d'intensité de la lumière dirigée (SP) qui se produit en raison d'un changement de l'angle de déviation par l'élément optique (OSn) de sélection, en fonction des caractéristiques optiques de l'élément optique (OSn) de sélection.
(JA) パターン描画装置(EX)は、描画ビーム(LBn)のスポット光(SP)を主走査方向に走査してパターンを描画する描画ユニット(Un)と、基板(P)と描画ユニット(Un)とを副走査方向に相対移動させる為の移動機構とを備える。パターン描画装置(EX)は、選択用光学素子(OSn)を用いて、光源装置(LS)からのビーム(LB)を、電気信号による光学特性の変化によって所定の偏向角度で偏向させて描画ビーム(LBn)として描画ユニット(Un)に入射させる第1の状態と、描画ユニット(Un)に非入射とする第2の状態とに択一的に切り換え、第1の状態のときに、描画ユニット(Un)から投射されるスポット光(SP)を副走査方向に所定の量だけシフトさせる為に、選択用光学素子(OSn)による偏向角度を変化させるように電気信号を制御し、選択用光学素子(OSn)による偏向角度の変化に伴って生じるスポット光(SP)の強度変化を、選択用光学素子(OSn)の光学特性に応じて補正する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)